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1. (WO2017209114) COMPOSITION TENSIOACTIVE
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N° de publication : WO/2017/209114 N° de la demande internationale : PCT/JP2017/020051
Date de publication : 07.12.2017 Date de dépôt international : 30.05.2017
CIB :
C11D 1/14 (2006.01) ,C11D 1/72 (2006.01)
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
11
HUILES, GRAISSES, MATIÈRES GRASSES OU CIRES ANIMALES OU VÉGÉTALES; LEURS ACIDES GRAS; DÉTERGENTS; BOUGIES
D
COMPOSITIONS DÉTERGENTES; EMPLOI D'UNE SUBSTANCE, UTILISÉE SEULE, COMME DÉTERGENT; SAVON OU FABRICATION DU SAVON; SAVONS DE RÉSINE; RÉCUPÉRATION DE LA GLYCÉRINE
1
Compositions détergentes formées essentiellement de composés tensio-actifs; Emploi de ces composés comme détergents
02
Composés anioniques
12
Esters des acides sulfoniques ou de l'acide sulfurique; Leurs sels
14
dérivés d'hydrocarbures aliphatiques ou de monoalcools
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
11
HUILES, GRAISSES, MATIÈRES GRASSES OU CIRES ANIMALES OU VÉGÉTALES; LEURS ACIDES GRAS; DÉTERGENTS; BOUGIES
D
COMPOSITIONS DÉTERGENTES; EMPLOI D'UNE SUBSTANCE, UTILISÉE SEULE, COMME DÉTERGENT; SAVON OU FABRICATION DU SAVON; SAVONS DE RÉSINE; RÉCUPÉRATION DE LA GLYCÉRINE
1
Compositions détergentes formées essentiellement de composés tensio-actifs; Emploi de ces composés comme détergents
66
Composés non ioniques
72
Ethers de polyoxyalkylèneglycols
Déposants :
花王株式会社 KAO CORPORATION [JP/JP]; 東京都中央区日本橋茅場町1丁目14番10号 14-10, Nihonbashi Kayabacho 1-chome, Chuo-ku, Tokyo 1038210, JP
Inventeurs :
田渕 友季子 TABUCHI,Yukiko; JP
坂井 隆也 SAKAI,Takaya; JP
重久 真季子 SHIGEHISA,Makiko; JP
遠藤 寛子 ENDO,Hiroko; JP
Mandataire :
特許業務法人 ユニアス国際特許事務所 UNIUS PATENT ATTORNEYS OFFICE; 大阪府大阪市淀川区西中島5丁目13-9 新大阪MTビル1号館2階 First Shin-Osaka MT Bldg. 2nd Floor, 5-13-9 Nishinakajima, Yodogawa-ku, Osaka-shi, Osaka 5320011, JP
Données relatives à la priorité :
2016-10826631.05.2016JP
Titre (EN) SURFACTANT COMPOSITION
(FR) COMPOSITION TENSIOACTIVE
(JA) 界面活性剤組成物
Abrégé :
(EN) Provided is a surfactant composition which includes high concentrations of a surfactant, has fluidity in a wide concentration range, and does not become clouded when diluted with hard water. This surfactant composition includes component A, component B, and component C, and the total content of the component A and the component B is 35 to 80% by mass. Component A At least one sulfonate compound selected from the group consisting of a hydroxyalkane sulfonate and an olefin sulfonate Component B A polyoxyalkylene alkyl ether Component C Water
(FR) L'invention concerne une composition tensioactive qui comprend des concentrations élevées en tensioactif, qui présente une fluidité dans une large plage de concentrations et qui ne devient pas trouble lorsqu'elle est diluée avec de l'eau dure. Cette composition tensioactive comprend le constituant A, le constituant B et le constituant C et la teneur totale en constituant A et en constituant B est de 35 à 80 % en masse. Constituant A : au moins un composé de type sulfonate choisi dans le groupe constitué par un hydroxyalcanesulfonate et un oléfinesulfonate. Constituant B : un polyoxyalkylènealkyléther, Constituant C : de l'eau
(JA) 本発明は、界面活性剤を高濃度で含有し、広い濃度域で流動性を有し、かつ硬水で希釈しても白濁しない界面活性剤組成物を提供する。本発明の界面活性剤組成物は、下記の成分A、成分B及び成分Cを含有し、成分A及び成分Bの合計含有量が35質量%以上80質量%以下である。 成分A ヒドロキシアルカンスルホン酸塩及びオレフィンスルホン酸塩からなる群より選択される少なくとも1種のスルホン酸塩化合物 成分B ポリオキシアルキレンアルキルエーテル 成分C 水
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)