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1. (WO2017209002) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE, FILM DE TRANSFERT, PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN MOTIF, MOTIF DÉCORATIF, ET ÉCRAN TACTILE
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N° de publication : WO/2017/209002 N° de la demande internationale : PCT/JP2017/019739
Date de publication : 07.12.2017 Date de dépôt international : 26.05.2017
CIB :
G03F 7/033 (2006.01) ,G03F 7/004 (2006.01) ,G03F 7/027 (2006.01) ,G06F 3/041 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004
Matériaux photosensibles
027
Composés photopolymérisables non macromoléculaires contenant des doubles liaisons carbone-carbone, p.ex. composés éthyléniques
032
avec des liants
033
les liants étant des polymères obtenus par des réactions faisant intervenir uniquement des liaisons non saturées carbone-carbone, p.ex. polymères vinyliques
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004
Matériaux photosensibles
04
Chromates
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004
Matériaux photosensibles
027
Composés photopolymérisables non macromoléculaires contenant des doubles liaisons carbone-carbone, p.ex. composés éthyléniques
G PHYSIQUE
06
CALCUL; COMPTAGE
F
TRAITEMENT ÉLECTRIQUE DE DONNÉES NUMÉRIQUES
3
Dispositions d'entrée pour le transfert de données à traiter pour leur donner une forme utilisable par le calculateur; Dispositions de sortie pour le transfert de données de l'unité de traitement à l'unité de sortie, p.ex. dispositions d'interface
01
Dispositions d'entrée ou dispositions d'entrée et de sortie combinées pour l'interaction entre l'utilisateur et le calculateur
03
Dispositions pour convertir sous forme codée la position ou le déplacement d'un élément
041
Numériseurs, p.ex. pour des écrans ou des pavés tactiles, caractérisés par les moyens de transduction
Déposants : FUJIFILM CORPORATION[JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620, JP
Inventeurs : ISHIZAKA, Soji; JP
KANNA, Shinichi; JP
MOROZUMI, Kazumasa; JP
ARIDOMI, Takashi; JP
Mandataire : TAIYO, NAKAJIMA & KATO; 3-17, Shinjuku 4-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1600022, JP
Données relatives à la priorité :
2016-10918531.05.2016JP
Titre (EN) PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, TRANSFER FILM, METHOD FOR PRODUCING PATTERN, DECORATIVE PATTERN AND TOUCH PANEL
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE, FILM DE TRANSFERT, PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN MOTIF, MOTIF DÉCORATIF, ET ÉCRAN TACTILE
(JA) 感光性樹脂組成物、転写フィルム、パターンの製造方法、加飾パターン、及びタッチパネル
Abrégé :
(EN) A photosensitive resin composition which contains a binder having an I/O value of 0.5 or more and a weight average molecular weight of 25,000 or less, a pigment, a polymerizable monomer and a polymerization initiator, and wherein the content of the pigment is 20% by mass or more relative to the total solid content of the photosensitive resin composition; a transfer film which comprises a photosensitive resin layer containing the solid content of the photosensitive resin composition; a method for producing a pattern, which uses the photosensitive resin composition or the transfer film; a decorative pattern which uses the photosensitive resin composition or the transfer film; and a touch panel which comprises the decorative pattern.
(FR) La présente invention se rapporte : à une composition de résine photosensible qui contient un liant ayant une valeur I/O de 0,5 ou plus et une masse moléculaire moyenne en poids de 25 000 ou moins, un pigment, un monomère polymérisable et un initiateur de polymérisation, la teneur en pigment étant de 20 % en masse ou plus par rapport à la teneur totale en solides de la composition de résine photosensible ; à un film de transfert qui comprend une couche de résine photosensible contenant la teneur en solides de la composition de résine photosensible ; à un procédé de fabrication d'un motif qui utilise cette composition de résine photosensible ou le film de transfert ; à un motif décoratif qui utilise ladite composition de résine photosensible ou ledit film de transfert ; et à un écran tactile qui comporte le motif décoratif.
(JA) I/O値が0.5以上であり重量平均分子量が25000以下であるバインダーと、顔料と、重合性モノマーと、重合開始剤と、を含有し、顔料の含有量が、感光性樹脂組成物の全固形分量に対し、20質量%以上である感光性樹脂組成物、上記感光性樹脂組成物の固形分を含む感光性樹脂層を備える転写フィルム、上記感光性樹脂組成物又は上記転写フィルムを用いたパターンの製造方法、上記感光性樹脂組成物又は上記転写フィルムを用いた加飾パターン、及び、上記加飾パターンを備えるタッチパネル。
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)