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1. (WO2017208990) COMPOSITION DE DÉTERGENT LIQUIDE
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N° de publication :    WO/2017/208990    N° de la demande internationale :    PCT/JP2017/019697
Date de publication : 07.12.2017 Date de dépôt international : 26.05.2017
CIB :
C11D 17/08 (2006.01), C11D 1/72 (2006.01), C11D 1/74 (2006.01), C11D 1/83 (2006.01), C11D 3/37 (2006.01), C11D 3/50 (2006.01), D06L 1/12 (2006.01)
Déposants : LION CORPORATION [JP/JP]; 3-7, Honjo 1-chome, Sumida-ku, Tokyo 1308644 (JP)
Inventeurs : TAI Aiko; (JP).
MAEDA Izumi; (JP)
Mandataire : SHIGA Masatake; (JP).
TAKAHASHI Norio; (JP).
SUZUKI Mitsuyoshi; (JP).
KAWAGOE Yuichiro; (JP).
KATO Hiroyuki; (JP)
Données relatives à la priorité :
2016-108123 31.05.2016 JP
Titre (EN) LIQUID DETERGENT COMPOSITION
(FR) COMPOSITION DE DÉTERGENT LIQUIDE
(JA) 液体洗浄剤組成物
Abrégé : front page image
(EN)The present invention relates to a liquid detergent composition which is characterized by containing (A) a specific nonionic surfactant, (B) an anionic surfactant (excluding a higher fatty acid salt) and (C) a silicone which has a polyether-modified group and at least one modified group selected from among amino-modified groups and amide-modified groups in the structure. It is preferable that the mass ratio of the component (B) to the component (C), namely (B)/(C) is from 1/1 to 20/1.
(FR)La présente invention concerne une composition de détergent liquide qui est caractérisée en ce qu'elle comporte (A) un tensioactif non ionique spécifique, (B) un tensioactif anionique (à l'exclusion d'un sel d'acide gras supérieur) et (C) une silicone qui présente dans sa structure un groupe modifié par polyéther et au moins un groupe modifié choisi parmi des groupes modifiés par amino et des groupes modifiés par amide. Il est préférable que le rapport de masse du constituant (B) au constituant (C), à savoir (B)/(C) soit compris entre 1/1 et 20/1.
(JA)本発明は、特定のノニオン界面活性剤(A)と、アニオン界面活性剤(B)(高級脂肪酸塩を除く)と、アミノ変性基及びアミド変性基から選ばれる少なくとも1つの変性基ならびにポリエーテル変性基を構造内に有するシリコーン(C)と、を含むことを特徴とする、液体洗浄剤組成物に関する。前記(B)成分と前記(C)成分の質量比率(B)/(C)は、1/1~20/1であることが好ましい。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)