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1. (WO2017208982) DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT, PROCÉDÉ DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT, PROGRAMME, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'ARTICLE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication :    WO/2017/208982    N° de la demande internationale :    PCT/JP2017/019639
Date de publication : 07.12.2017 Date de dépôt international : 26.05.2017
CIB :
G03F 7/20 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01), H01L 21/677 (2006.01)
Déposants : CANON KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 30-2, Shimomaruko 3-chome, Ohta-ku, Tokyo 1468501 (JP)
Inventeurs : TAKARADA, Yosuke; (JP).
TADA, Yoshihito; (JP)
Mandataire : OHTSUKA, Yasunori; (JP).
OHTSUKA, Yasuhiro; (JP).
TAKAYANAGI, Jiro; (JP).
KIMURA, Shuji; (JP)
Données relatives à la priorité :
2016-109238 31.05.2016 JP
Titre (EN) SUBSTRATE PROCESSING DEVICE, SUBSTRATE PROCESSING METHOD, PROGRAM, AND ARTICLE MANUFACTURING METHOD
(FR) DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT, PROCÉDÉ DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT, PROGRAMME, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'ARTICLE
(JA) 基板処理装置、基板処理方法、プログラム、及び物品製造方法
Abrégé : front page image
(EN)A substrate processing device has: a first processing unit for performing a first process on a first substrate; a second processing unit for performing a second process on the first substrate on which the first process was performed; a determination unit for determining the timing for inputting a second substrate into the first processing unit, on the basis of the time required for the second process; and a change unit for giving a third substrate priority over the second substrate when a new processing request is received for processing the third substrate while waiting for input of the second substrate by the determined timing, and changing the processing order so as to input the third substrate into the first processing unit.
(FR)L'invention concerne un dispositif de traitement de substrat qui comporte : une première unité de traitement pour effectuer un premier traitement sur un premier substrat ; une seconde unité de traitement pour effectuer un second traitement sur le premier substrat sur lequel le premier traitement a été effectué ; une unité de détermination pour déterminer le moment pour entrer un deuxième substrat dans la première unité de traitement, sur la base du temps requis pour le second traitement ; et une unité de changement pour donner à un troisième substrat la priorité par rapport au deuxième substrat lorsqu'une nouvelle requête de traitement est reçue pour traiter le troisième substrat tout en attendant l'entrée du deuxième substrat au moment déterminé, et changer l'ordre de traitement de façon à entrer le troisième substrat dans la première unité de traitement.
(JA)基板処理装置は、第1基板に対して第1処理を行う第1処理部と、前記第1処理が行われた前記第1基板に対して第2処理を行う第2処理部と、前記第2処理に要する時間に基づいて、前記第1処理部へ第2基板を投入するタイミングを決定する決定部と、前記決定されたタイミングまで前記第2基板の投入を待機している間に第3基板を処理する新たな処理要求を受け付けた場合に、該第3基板を前記第2基板に優先して前記第1処理部に投入するよう処理順を変更する変更部とを有する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)