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1. (WO2017208899) SYSTÈME OPTIQUE DE PROJECTION ET PROJECTEUR
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N° de publication : WO/2017/208899 N° de la demande internationale : PCT/JP2017/019169
Date de publication : 07.12.2017 Date de dépôt international : 23.05.2017
CIB :
G03B 21/14 (2006.01) ,G02B 5/00 (2006.01) ,G02B 13/00 (2006.01) ,G03B 21/00 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
B
APPAREILS OU DISPOSITIONS POUR PRENDRE DES PHOTOGRAPHIES, POUR LES PROJETER OU LES VISIONNER; APPAREILS OU DISPOSITIONS UTILISANT DES TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; LEURS ACCESSOIRES
21
Projecteurs ou visionneuses du type par projection; Leurs accessoires
14
Détails
G PHYSIQUE
02
OPTIQUE
B
ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
5
Eléments optiques autres que les lentilles
G PHYSIQUE
02
OPTIQUE
B
ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
13
Objectifs optiques spécialement conçus pour les emplois spécifiés ci-dessous
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
B
APPAREILS OU DISPOSITIONS POUR PRENDRE DES PHOTOGRAPHIES, POUR LES PROJETER OU LES VISIONNER; APPAREILS OU DISPOSITIONS UTILISANT DES TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; LEURS ACCESSOIRES
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Projecteurs ou visionneuses du type par projection; Leurs accessoires
Déposants :
セイコーエプソン株式会社 SEIKO EPSON CORPORATION [JP/JP]; 東京都新宿区新宿四丁目1番6号 1-6, Shinjuku 4-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1608801, JP
Inventeurs :
森 貴照 MORI Takateru; JP
成松 修司 NARIMATSU Shuji; JP
塩川 浩司 SHIOKAWA Koji; JP
Mandataire :
渡辺 和昭 WATANABE Kazuaki; JP
仲井 智至 NAKAI Satoshi; JP
Données relatives à la priorité :
2016-10826831.05.2016JP
Titre (EN) PROJECTION OPTICAL SYSTEM AND PROJECTOR
(FR) SYSTÈME OPTIQUE DE PROJECTION ET PROJECTEUR
(JA) 投射光学系およびプロジェクター
Abrégé :
(EN) The purpose of the present invention is to minimize damage caused by unwanted light beams passing through a projection optical system of a short throw projector. This projector 1 projects and magnifies image light generated by an image generation unit 3 using a projection optical system 4, and moves the incidence position of the image light into the projection optical system 4 using a lens shifting mechanism 5. The projection optical system 4 forms an intermediate image R at a midpoint in the optical path. A light shield mask 30 is provided at the imaging position P of the intermediate image R. A light shield region 31 created by the light shield mask 30 includes a region that does not overlap the intermediate image R within an effective imaging region R0 at the imaging position P of the intermediate image. For example, the light shield region 31 is a region located opposite the side where the intermediate image R shifts within the circular effective imaging region R0.
(FR) La présente invention vise à réduire au minimum les dégâts causés par des faisceaux lumineux indésirables qui traversent un système optique de projection d'un projecteur à courte portée. Ce projecteur (1) projette et amplifie une lumière d'image générée par une unité de génération d'image (3) à l'aide d'un système optique de projection (4), et il déplace la position d'incidence de la lumière d'image dans le système optique de projection (4) au moyen d'un mécanisme de décalage de lentille (5). Ledit système optique de projection (4) forme une image intermédiaire (R) au milieu du chemin optique. Un masque de protection contre la lumière (30) se trouve à la position d'imagerie (P) de l'image intermédiaire (R). Une région de protection contre la lumière (31) créée par le masque de protection contre la lumière (30) inclut une région qui ne chevauche pas l'image intermédiaire (R) à l'intérieur d'une région d'imagerie effective (R0) à la position d'imagerie (P) de l'image intermédiaire. Par exemple, la région de protection contre la lumière (31) est une région située à l'opposé du côté où l'image intermédiaire (R) se décale à l'intérieur de la région d'imagerie effective circulaire (R0).
(JA) 短焦点のプロジェクターにおいて投射光学系を通過する不要な光線によるダメージを低減させること。 プロジェクター1は、画像生成部3で生成した画像光を投射光学系4によって拡大投射するものであり、投射光学系4への画像光の入射位置をレンズシフト機構5によって移動させる。投射光学系4は、光路の途中で中間像Rを結像させる。中間像Rの結像位置Pには遮光マスク30が設けられる。遮光マスク30による遮光領域31は、中間像の結像位置Pにおける有効結像領域R0の範囲内で中間像Rと重ならない領域を含む。例えば、遮光領域31は、円形の有効結像領域R0のうち、中間像Rがシフトした側と反対側の領域である。
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Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)