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1. (WO2017208822) DISPOSITIF DE FORMATION DE CHAMP ACOUSTIQUE ATTÉNUÉ DE LOCAL, PROCÉDÉ DE FORMATION DE CHAMP ACOUSTIQUE ATTÉNUÉ DE LOCAL, ET PROGRAMME
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication : WO/2017/208822 N° de la demande internationale : PCT/JP2017/018501
Date de publication : 07.12.2017 Date de dépôt international : 17.05.2017
CIB :
G10K 11/178 (2006.01) ,G10K 11/34 (2006.01) ,H04R 1/40 (2006.01) ,H04R 3/00 (2006.01)
Déposants : SONY CORPORATION[JP/JP]; 1-7-1, Konan, Minato-ku, Tokyo 1080075, JP
Inventeurs : MAENO Yu; JP
MITSUFUJI Yuhki; JP
Mandataire : NISHIKAWA Takashi; JP
INAMOTO Yoshio; JP
Données relatives à la priorité :
2016-10735630.05.2016JP
Titre (EN) LOCAL ATTENUATED SOUND FIELD FORMATION DEVICE, LOCAL ATTENUATED SOUND FIELD FORMATION METHOD, AND PROGRAM
(FR) DISPOSITIF DE FORMATION DE CHAMP ACOUSTIQUE ATTÉNUÉ DE LOCAL, PROCÉDÉ DE FORMATION DE CHAMP ACOUSTIQUE ATTÉNUÉ DE LOCAL, ET PROGRAMME
(JA) 局所消音音場形成装置および方法、並びにプログラム
Abrégé : front page image
(EN) The present technology relates to a local attenuated sound field formation device, a local attenuated sound field formation method, and a program that make it possible to perform control in the depth direction of an attenuation area. A local attenuated sound field formation device that has: a first speaker array that outputs sound on the basis of a first speaker drive signal and forms a prescribed sound field; and a second speaker array that is arranged in a different location from the first speaker array, outputs sound on the basis of a second speaker drive signal, and forms a sound field that cancels the prescribed sound field. The present technology can be applied to local attenuated sound field formation devices.
(FR) La présente invention concerne un dispositif de formation de champ acoustique atténué de local, un procédé de formation de champ acoustique atténué de local, et un programme permettant d'effectuer une commande dans la direction de profondeur d'une zone d'atténuation. L'invention concerne un dispositif de formation de champ acoustique atténué de local comportant: un premier réseau de haut-parleurs qui émet un son sur la base d'un premier signal de commande de haut-parleur et forme un champ acoustique prescrit; et un second réseau de haut-parleurs qui est agencé à un emplacement différent du premier réseau de haut-parleurs, émet un son sur la base d'un second signal de commande de haut-parleur, et forme un champ acoustique qui annule le champ acoustique prescrit. La présente invention peut être appliquée à des dispositifs de formation de champ acoustique local atténué de local.
(JA) 本技術は、消音エリアの奥行き方向への制御を行うことができるようにする局所消音音場形成装置および方法、並びにプログラムに関する。 局所消音音場形成装置は、第1のスピーカ駆動信号に基づいて音を出力し、所定の音場を形成する第1のスピーカアレイと、第1のスピーカアレイとは異なる位置に配置され、第2のスピーカ駆動信号に基づいて音を出力して、所定の音場を打ち消す音場を形成する第2のスピーカアレイとを有している。本技術は局所消音音場形成装置に適用することができる。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)