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1. (WO2017208796) COMPOSITION POUR FORMER UN FILM, FILM, PROCÉDÉ POUR FORMER UN FILM DE SOUS-COUCHE DE RÉSERVE, PROCÉDÉ POUR FORMER UN SUBSTRAT POURVU DE MOTIFS ET COMPOSÉ

Pub. No.:    WO/2017/208796    International Application No.:    PCT/JP2017/018222
Publication Date: Fri Dec 08 00:59:59 CET 2017 International Filing Date: Tue May 16 01:59:59 CEST 2017
IPC: C08F 34/02
G03F 7/11
G03F 7/26
H01L 21/027
Applicants: JSR CORPORATION
JSR株式会社
Inventors: NOSAKA Naoya
野坂 直矢
WAKAMATSU Gouji
若松 剛史
ABE Tsubasa
阿部 翼
MATSUMURA Yuushi
松村 裕史
MIYAKE Masayuki
三宅 正之
TAKIMOTO Yoshio
滝本 嘉夫
Title: COMPOSITION POUR FORMER UN FILM, FILM, PROCÉDÉ POUR FORMER UN FILM DE SOUS-COUCHE DE RÉSERVE, PROCÉDÉ POUR FORMER UN SUBSTRAT POURVU DE MOTIFS ET COMPOSÉ
Abstract:
L'objet de la présente invention est de fournir : une composition pour former un film, la composition étant capable de former un film ayant une excellente planéité ainsi qu'une excellente résistance aux solvants, une excellente résistance à la gravure et une excellente résistance à la chaleur ; un film ; un procédé de formation d'un film de sous-couche de réserve ; un procédé de fabrication d'un substrat pourvu de motifs ; et un composé. À cet effet, la présente invention concerne une composition qui est destinée à former un film et qui contient un solvant et un composé ayant un groupe représenté par la formule (1) ci-dessous. Dans la formule (1), les groupes R1 à R4 représentent chacun indépendamment un atome d'hydrogène ou un groupe organique monovalent ayant de 1 à 20 atomes de carbone, ou ils présentent une structure cyclique ayant de 3 à 20 chaînons, la structure cyclique étant formée avec des atomes de carbone ou des chaînes carbonées qui sont liées par lesdits groupes. Ar1 est un groupe obtenu par élimination, sur un arène ayant de 6 à 20 atomes de carbone, des atomes d'hydrogène sur (n +3) anneaux aromatiques. R5 est un groupe hydroxy, un atome d'halogène, un groupe nitro ou un groupe organique monovalent ayant de 1 à 20 atomes de carbone. L'indice n est un entier compris entre 0 et 9.