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1. (WO2017208749) LIQUIDE DE TRAITEMENT, PROCÉDÉ DE NETTOYAGE DE SUBSTRAT, ET PROCÉDÉ D'ÉLIMINATION DE RÉSERVE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication :    WO/2017/208749    N° de la demande internationale :    PCT/JP2017/017589
Date de publication : 07.12.2017 Date de dépôt international : 09.05.2017
CIB :
H01L 21/304 (2006.01), C11D 7/02 (2006.01), C11D 7/08 (2006.01), C11D 7/18 (2006.01), C11D 7/28 (2006.01), C11D 7/50 (2006.01), C11D 17/08 (2006.01), C23G 1/06 (2006.01), C23G 1/10 (2006.01), G03F 7/42 (2006.01)
Déposants : FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620 (JP)
Inventeurs : KAMIMURA Tetsuya; (JP).
TAKAHASHI, Tomonori; (JP)
Mandataire : NAKASHIMA Junko; (JP).
YONEKURA Junzo; (JP).
MURAKAMI Yasunori; (JP)
Données relatives à la priorité :
2016-111077 02.06.2016 JP
2017-016654 01.02.2017 JP
Titre (EN) PROCESSING LIQUID, SUBSTRATE CLEANING METHOD, AND RESIST REMOVAL METHOD
(FR) LIQUIDE DE TRAITEMENT, PROCÉDÉ DE NETTOYAGE DE SUBSTRAT, ET PROCÉDÉ D'ÉLIMINATION DE RÉSERVE
(JA) 処理液、基板の洗浄方法及びレジストの除去方法
Abrégé : front page image
(EN)The present invention addresses the issue of providing a processing liquid that has excellent residue removal performance and excellent corrosion resistance against metal layers containing Co and is capable of suppressing the occurrence of defects. The present invention also addresses the issue of providing a substrate cleaning method and a resist removal method. The processing liquid is for semiconductor devices and contains a fluorine-containing compound, an anticorrosion agent, and calcium. The calcium mass ratio content relative to the fluorine-containing compound content in the processing liquid is 1.0 × 10-10 - 1.0 × 10-4.
(FR)La présente invention traite le problème consistant à réaliser un liquide de traitement qui présente d'excellentes performances d'élimination de résidus et une excellente résistance à la corrosion contre des couches métalliques contenant du Co et est capable de limiter l'apparition de défauts. La présente invention traite le problème consistant à définir un procédé de nettoyage de substrat et un procédé d'élimination de réserve. Le liquide de traitement est destiné à des dispositifs à semi-conducteurs et contient un composé contenant du fluor, un agent anticorrosion, et du calcium. Le rapport de teneur massique en calcium par rapport à la teneur en composé contenant du fluor dans le liquide de traitement est de 1,0×10-10 à 1,0×10-4.
(JA)優れた残渣除去能を有し、Coを含有する金属層に対する優れた防食性を有し、かつ欠陥の発生を抑制することができる処理液を提供することを課題とする。基板の洗浄方法及びレジストの除去方法を提供することも課題とする。処理液は、含フッ素化合物と、防食剤と、カルシウムと、を含有する半導体デバイス用の処理液であって、処理液中の含フッ素化合物に対する、カルシウムの含有質量比が、1.0×10-10~1.0×10-4である。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)