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1. (WO2017208723) CONDENSATEUR ÉLECTROLYTIQUE
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N° de publication : WO/2017/208723 N° de la demande internationale : PCT/JP2017/017155
Date de publication : 07.12.2017 Date de dépôt international : 01.05.2017
CIB :
H01G 9/12 (2006.01) ,C22C 5/02 (2006.01) ,C22C 5/04 (2006.01) ,C22C 5/06 (2006.01) ,C22C 9/00 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
G
CONDENSATEURS; CONDENSATEURS, REDRESSEURS, DÉTECTEURS, DISPOSITIFS DE COMMUTATION, DISPOSITIFS PHOTOSENSIBLES OU SENSIBLES À LA TEMPÉRATURE, DU TYPE ÉLECTROLYTIQUE
9
Condensateurs électrolytiques, redresseurs électrolytiques, détecteurs électrolytiques, dispositifs de commutation électrolytiques, dispositifs électrolytiques photosensibles ou sensibles à la température; Procédés pour leur fabrication
004
Détails
08
Boîtiers: Capsulations
12
Orifices ou autres moyens pour permettre la dilatation
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
22
MÉTALLURGIE; ALLIAGES FERREUX OU NON FERREUX; TRAITEMENT DES ALLIAGES OU DES MÉTAUX NON FERREUX
C
ALLIAGES
5
Alliages à base de métaux nobles
02
Alliages à base d'or
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
22
MÉTALLURGIE; ALLIAGES FERREUX OU NON FERREUX; TRAITEMENT DES ALLIAGES OU DES MÉTAUX NON FERREUX
C
ALLIAGES
5
Alliages à base de métaux nobles
04
Alliages à base d'un métal du groupe du platine
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
22
MÉTALLURGIE; ALLIAGES FERREUX OU NON FERREUX; TRAITEMENT DES ALLIAGES OU DES MÉTAUX NON FERREUX
C
ALLIAGES
5
Alliages à base de métaux nobles
06
Alliages à base d'argent
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
22
MÉTALLURGIE; ALLIAGES FERREUX OU NON FERREUX; TRAITEMENT DES ALLIAGES OU DES MÉTAUX NON FERREUX
C
ALLIAGES
9
Alliages à base de cuivre
Déposants : NITTO DENKO CORPORATION[JP/JP]; 1-1-2,Shimohozumi,Ibaraki-shi, Osaka 5678680, JP
Inventeurs : NAKAMURA,Tomohiro; JP
FUKUOKA,Takahiro; JP
FUJIWARA,Keiko; JP
HARADA,Noriaki; JP
ISHII,Kyoko; JP
MASAKI,Shunsuke; JP
Mandataire : UNIUS PATENT ATTORNEYS OFFICE; First Shin-Osaka MT Bldg. 2nd Floor, 5-13-9 Nishinakajima, Yodogawa-ku, Osaka-shi, Osaka 5320011, JP
Données relatives à la priorité :
2016-10767730.05.2016JP
2017-07815511.04.2017JP
Titre (EN) ELECTROLYTIC CAPACITOR
(FR) CONDENSATEUR ÉLECTROLYTIQUE
(JA) 電解コンデンサ
Abrégé :
(EN) The purpose of the present invention is to provide an electrolytic capacitor which raises no concerns regarding an outer case swelling or rupturing even in cases where a large quantity of hydrogen gas is generated, has a large capacitance, and can enable a reduction in size and an increase in withstand voltage. This electrolytic capacitor is provided with a hydrogen discharge film, with the hydrogen discharge film including a hydrogen gas-permeable layer that selectively allows permeation of 99 mol.% of hydrogen gas when in contact with a mixed gas containing equimolar quantities of hydrogen gas and nitrogen gas, and the electrolytic capacitor is characterized in that the ratio of the average thickness of an oxide film on an anode to the rated voltage of the capacitor (average thickness/rated voltage) is 1.2-2.9 (nm/V).
(FR) La présente invention a pour objet de réaliser un condensateur électrolytique qui ne pose aucun problème concernant le gonflement ou la rupture d'une enveloppe extérieure même dans des cas où une grande quantité de gaz hydrogène est générée, qui présente une grande capacitance et peut permettre une réduction de taille et une augmentation de la tension de tenue. Ce condensateur électrolytique est muni d'un film de dégagement d'hydrogène, le film de dégagement d'hydrogène comprenant une couche perméable au gaz hydrogène qui permet sélectivement la perméation de 99% en moles de gaz hydrogène lorsqu'elle est en contact avec un gaz mixte contenant des quantités équimolaires de gaz hydrogène et de gaz azote, et le condensateur électrolytique est caractérisé en ce que le rapport de l'épaisseur moyenne d'un film d'oxyde sur une anode à la tension nominale du condensateur (épaisseur moyenne/tension nominale) est de 1,2 à 2,9 (nm/V).
(JA) 本発明は、水素ガスが大量に発生した場合でも外装ケースが膨張又は破裂する恐れがなく、しかも静電容量が大きく、小型化又は高耐電圧化が可能な電解コンデンサを提供することを目的とする。本発明の電解コンデンサは、水素排出膜を備えており、前記水素排出膜は、水素ガスと窒素ガスを等モル含む混合ガスを接触させたときに、水素ガスを99モル%以上選択的に透過する水素ガス透過層を含み、陽極の酸化皮膜の平均厚さとコンデンサの定格電圧との比(平均厚さ/定格電圧)が1.2~2.9(nm/V)であることを特徴とする。
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Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)