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1. (WO2017208495) UNITÉ DE PURIFICATION ET DISPOSITIF DE PURIFICATION
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N° de publication :    WO/2017/208495    N° de la demande internationale :    PCT/JP2017/003180
Date de publication : 07.12.2017 Date de dépôt international : 30.01.2017
CIB :
C02F 3/28 (2006.01), B09B 3/00 (2006.01), B09C 1/10 (2006.01), C02F 11/04 (2006.01), H01M 8/02 (2016.01), H01M 8/16 (2006.01)
Déposants : PANASONIC INTELLECTUAL PROPERTY MANAGEMENT CO., LTD. [JP/JP]; 1-61, Shiromi 2-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5406207 (JP)
Inventeurs : SUZUKI Yuya; (--).
YOSHIKAWA Naoki; (--).
KAMAI Ryo; (--).
YAGUCHI Mitsuo; (--)
Mandataire : ITO Masakazu; (JP).
MATSUMOTO Takayoshi; (JP).
HOSOKAWA Satoru; (JP).
MORI Futoshi; (JP)
Données relatives à la priorité :
2016-109897 01.06.2016 JP
Titre (EN) PURIFICATION UNIT AND PURIFICATION DEVICE
(FR) UNITÉ DE PURIFICATION ET DISPOSITIF DE PURIFICATION
(JA) 浄化ユニット及び浄化装置
Abrégé : front page image
(EN)Provided is a purification unit (1) comprising a first conductor (10), a second conductor (20), and a third conductor (30). At least part of the first conductor is electrically connected to one surface of the third conductor and at least part of the second conductor is electrically connected to the other surface of the third conductor. In addition, at least part of the first conductor is in contact with a gas phase (50) containing oxygen, and at least part of the second conductor is in contact with an object to be treated. A purification device (100) is provided with the abovementioned purification unit and a processing tank (80) for holding therein the purification unit and wastewater (90) to be purified by the purification unit. The purification unit is arranged so that at least part of the first conductor is in contact with the gas phase and at least part of the second conductor is in contact with the wastewater.
(FR)L'invention concerne une unité de purification (1) comprenant un premier conducteur (10), un deuxième conducteur (20) et un troisième conducteur (30). Au moins une partie du premier conducteur est connectée électriquement à une surface du troisième conducteur, et au moins une partie du deuxième conducteur est connectée électriquement à l'autre surface du troisième conducteur. De plus, au moins une partie du premier conducteur est en contact avec une phase gazeuse (50) contenant de l'oxygène, et au moins une partie du deuxième conducteur est en contact avec un objet à traiter. Un dispositif de purification (100) comprend ladite unité de purification et un réservoir de traitement (80) pour contenir, à l'intérieur de ce dernier, l'unité de purification et les eaux usées (90) à purifier par l'unité de purification. L'unité de purification est disposée de telle sorte qu'au moins une partie du premier conducteur est en contact avec la phase gazeuse et au moins une partie du deuxième conducteur est en contact avec les eaux usées.
(JA)浄化ユニット(1)は、第1の導電体(10)と第2の導電体(20)と第3の導電体(30)とを有する。そして、第3の導電体の一方の面に第1の導電体の少なくとも一部が電気的に接続し、第3の導電体の他方の面に第2の導電体の少なくとも一部が電気的に接続する。さらに、第1の導電体の少なくとも一部は酸素を含む気相(50)と接触し、第2の導電体の少なくとも一部は被処理体と接触する。浄化装置(100)は、上述の浄化ユニットと、浄化ユニット及び浄化ユニットにより浄化される廃水(90)を内部に保持するための処理槽(80)とを備える。そして、浄化ユニットは、第1の導電体の少なくとも一部が気相と接触し、かつ、第2の導電体の少なくとも一部が廃水と接触するように設置される。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)