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1. (WO2017207958) DISPOSITIF D’ÉCOULEMENT DE FLUIDE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
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N° de publication :    WO/2017/207958    N° de la demande internationale :    PCT/GB2017/051288
Date de publication : 07.12.2017 Date de dépôt international : 10.05.2017
CIB :
B01L 3/00 (2006.01), D21H 25/06 (2006.01)
Déposants : UNIVERSITY OF SOUTHAMPTON [GB/GB]; Highfield Southampton SO17 1BJ (GB)
Inventeurs : EASON, Robert; (GB).
SONES, Collin; (GB).
KATIS, Ioannis; (GB).
HE, Peijun; (GB)
Mandataire : BERRYMAN, Robert; (GB)
Données relatives à la priorité :
1609675.2 02.06.2016 GB
Titre (EN) FLUID FLOW DEVICE AND METHOD FOR MAKING THE SAME
(FR) DISPOSITIF D’ÉCOULEMENT DE FLUIDE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
Abrégé : front page image
(EN)Techniques for making fluid flow devices are described. The technique is based on radiation-induced conversion of a radiation-sensitive substance from a first state to a second state. With adjustment of the radiation parameters such as power and scan speed we can control the depths of barriers that are formed within a substrate which can produce 3D flow paths. We have used this depth-variable patterning protocol for stacking and sealing of multilayer substrates, for assembly of backing layers for two-dimensional (2D) lateral flow devices and for fabrication of 3D devices. Since the 3D flow paths can be formed via a single laser- writing process by controlling the patterning parameters, this is a distinct improvement over other methods that require multiple complicated and repetitive assembly procedures.
(FR)La présente invention concerne des techniques de fabrication de dispositifs d'écoulement de fluide. La technique est basée sur la conversion induite par rayonnement d'une substance sensible au rayonnement d'un premier état vers un deuxième état. Au moyen de l'ajustement des paramètres de rayonnement, tels que la puissance et la vitesse de balayage, il est possible de contrôler les profondeurs de barrières qui sont formées dans un substrat qui peut produire des trajets d'écoulement 3D. Nous avons utilisé ce protocole de modelage à profondeur variable pour l'empilement et le scellement de substrats multicouches, pour l'assemblage de couches de support pour des dispositifs d’écoulement latéral bidimensionnels (2D) et pour la fabrication de dispositifs 3D. Étant donné que les trajets d'écoulement 3D peuvent être formés au moyen d'un processus d'écriture laser unique par ajustement des paramètres de modelage, il s’agit d’une amélioration distincte par rapport à d'autres procédés qui nécessitent des procédures d'assemblage complexes et répétitives multiples.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)