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1. (WO2017207211) SYSTÈME À PLATEAU, APPAREIL LITHOGRAPHIQUE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIFS
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N° de publication : WO/2017/207211 N° de la demande internationale : PCT/EP2017/060738
Date de publication : 07.12.2017 Date de dépôt international : 05.05.2017
CIB :
G03F 7/20 (2006.01) ,H02K 41/02 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20
Exposition; Appareillages à cet effet
H ÉLECTRICITÉ
02
PRODUCTION, CONVERSION OU DISTRIBUTION DE L'ÉNERGIE ÉLECTRIQUE
K
MACHINES DYNAMO-ÉLECTRIQUES
41
Systèmes de propulsion dans lesquels un élément rigide se déplace le long d'une piste sous l'effet de l'action dynamo-électrique s'exerçant entre cet élément et un flux magnétique se propageant le long de la piste
02
Moteurs linéaires; Moteurs sectionnels
Déposants :
ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven, NL
Inventeurs :
COX, Hendrikus, Herman, Marie; NL
GIJZEN, Ronald, Cornelis, Gerardus; NL
LIMPENS, Patrick, Willem, Paul; NL
RIEDSTRA, Bart, Friso; NL
VAN DER MEULEN, Frits; NL
Mandataire :
VERHOEVEN, Johannes; NL
Données relatives à la priorité :
16172139.431.05.2016EP
Titre (EN) STAGE SYSTEM, LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) SYSTÈME À PLATEAU, APPAREIL LITHOGRAPHIQUE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIFS
Abrégé :
(EN) The invention pertains to a stage system, and to a lithographic apparatus and a method for manufacturing a device in which a stage system is used. In the stage system (1) a positioning system is provided comprising an actuator (10) adapted to position an object table (2). The actuator comprises a magnet assembly (20) and a coil assembly (11). The magnet assembly comprises a first magnetic body (21) and a second magnetic body (22), which are in use subjected to a internal magnetic force. The magnet assembly has a separate interface (23, 24) for connecting each magnetic body to the object table separately. The magnet assembly further comprises a spacer device (25, 26), which holds the first and second magnetic body at a relative distance to each other in at least the direction of the internal magnetic force.
(FR) L'invention concerne un système à plateau, ainsi qu'un appareil lithographique et un procédé de fabrication d'un dispositif dans lequel un système à plateau est utilisé. Dans le système à plateau (1), un système de positionnement comprend un actionneur (10) conçu pour positionner une table porte-objets (2). L'actionneur comprend un montage d'aimants (20) et un montage de bobines (11). Le montage d'aimants comprend un premier corps magnétique (21) et un second corps magnétique (22), qui sont soumis à une force magnétique interne lors de leur utilisation. Le montage d'aimants comporte une interface séparée (23, 24) permettant de connecter séparément chaque corps magnétique à la table porte-objets. Le montage magnétique comprend en outre un dispositif d'espacement (25, 26) qui maintient les premier et second corps magnétiques à une distance relative l'un de l'autre au moins dans la direction de la force magnétique interne.
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)