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1. (WO2017206694) APPAREIL DE NETTOYAGE ET PROCÉDÉ DE NETTOYAGE
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N° de publication :    WO/2017/206694    N° de la demande internationale :    PCT/CN2017/083972
Date de publication : 07.12.2017 Date de dépôt international : 11.05.2017
CIB :
B08B 7/02 (2006.01), G02F 1/13 (2006.01), G02F 1/1337 (2006.01)
Déposants : BOE TECHNOLOGY GROUP CO., LTD. [CN/CN]; No.10 Jiuxianqiao Rd. Chaoyang District Beijing 100015 (CN).
HEFEI BOE OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY CO., LTD. [CN/CN]; No.2177, TongLing North Road New Railway Station District Hefei, Anhui 230012 (CN)
Inventeurs : JING, Yangkun; (CN).
LIU, Fei; (CN).
XU, Zhiwei; (CN).
CHE, Xiaopan; (CN).
CHEN, Chuanhui; (CN)
Mandataire : DRAGON INTELLECTUAL PROPERTY LAW FIRM; 10F, Bldg.2, Maples International Center No.32 Xizhimen North Street, Haidian District Beijing 100082 (CN)
Données relatives à la priorité :
201610384100.8 01.06.2016 CN
Titre (EN) CLEANING APPARATUS, AND CLEANING METHOD
(FR) APPAREIL DE NETTOYAGE ET PROCÉDÉ DE NETTOYAGE
(ZH) 一种清洁设备及清洁方法
Abrégé : front page image
(EN)A cleaning apparatus, and cleaning method. The cleaning apparatus is used to clean residues on a substrate. The cleaning apparatus comprises a deformation device (22) provided on the substrate (21), and an excitation device (23) used to create an excitation source for the deformation device (22), such that the deformation device (22) is deformed under the action of the excitation source, and thus drives the substrate (21) to vibrate. In this way, the present invention enables shaking residues off a substrate.
(FR)L'invention concerne un appareil de nettoyage et un procédé de nettoyage. L'appareil de nettoyage est utilisé pour nettoyer des résidus sur un substrat. L'appareil de nettoyage comprend un dispositif de déformation (22) disposé sur le substrat (21), et un dispositif d'excitation (23) utilisé pour créer une source d'excitation pour le dispositif de déformation (22), de sorte que le dispositif de déformation (22) soit déformé sous l'action de la source d'excitation et entraîne ainsi le substrat (21) à vibrer. De cette manière, la présente invention permet de secouer des résidus pour les enlever d'un substrat.
(ZH)一种清洁设备和清洁方法。其中,清洁设备用于去除基板上的残留物,该清洁设备包括设置在基板(21)上的形变装置(22);激励装置(23),用于生成形变装置(22)的激励源,使形变装置(22)在激励源作用下发生形变,从而带动基板(21)振动,以脱落基板上的残留物。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)