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1. (WO2017206515) SOURCE DE RÉTROÉCLAIRAGE, SON PROCÉDÉ DE FABRICATION, SON UTILISATION ET DISPOSITIF D'AFFICHAGE CORRESPONDANT
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N° de publication :    WO/2017/206515    N° de la demande internationale :    PCT/CN2017/070634
Date de publication : 07.12.2017 Date de dépôt international : 09.01.2017
CIB :
G02F 1/13357 (2006.01), F21V 9/16 (2006.01), G06K 9/00 (2006.01)
Déposants : BOE TECHNOLOGY GROUP CO., LTD. [CN/CN]; No.10 Jiuxianqiao Rd. Chaoyang District Beijing 100015 (CN).
BEIJING BOE OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY CO., LTD. [CN/CN]; No.8 Xihuanzhonglu, BDA Beijing 100176 (CN)
Inventeurs : DONG, Ruijun; (CN).
CHEN, Dong; (CN).
SUN, Haiwei; (CN).
WANG, Chenru; (CN).
WU, Jianjie; (CN).
CHEN, Lili; (CN)
Mandataire : CHINA SCIENCE PATENT & TRADEMARK AGENT LTD.; Suite 4-1105 No. 87, West 3rd Ring North Rd. Haidian District, Beijing 100089 (CN)
Données relatives à la priorité :
201610390035.X 03.06.2016 CN
Titre (EN) BACKLIGHT SOURCE, AND MANUFACTURING METHOD, USE AND DISPLAY DEVICE THEREOF
(FR) SOURCE DE RÉTROÉCLAIRAGE, SON PROCÉDÉ DE FABRICATION, SON UTILISATION ET DISPOSITIF D'AFFICHAGE CORRESPONDANT
(ZH) 背光源及其制造方法和用途、显示装置
Abrégé : front page image
(EN)A backlight source (1) and a display device thereof comprise an LED light source (10) emitting visible light, a light guide plate (2) and an infrared quantum dot (20). The LED light source (10) is provided at a light entering side of the light guide plate (2). The infrared quantum dot (20) is provided on at least one surface of the light guide plate (2), and emits infrared light after being excited by a part of the visible light emitted from the LED light source (10). The other part of the visible light emitted from the LED light source (10) and the infrared light both exit uniformly via a light exiting surface (26) of the light guide plate (2). A manufacturing method and use of the backlight source (1) having the infrared quantum dot are further disclosed.
(FR)Selon la présente invention, une source de rétroéclairage (1) et un dispositif d'affichage associé comprennent une source de lumière à DEL (10) émettant de la lumière visible, une plaque de guidage de lumière (2) et un point quantique infrarouge (20). La source de lumière à DEL (10) est disposée au niveau d'un côté d'entrée de lumière de la plaque de guidage de lumière (2). Le point quantique infrarouge (20) est disposé sur au moins une surface de la plaque de guidage de lumière (2), et émet de la lumière infrarouge après avoir été excité par une partie de la lumière visible émise par la source de lumière à DEL (10). L'autre partie de la lumière visible émise par la source de lumière à DEL (10) et la lumière infrarouge sortent toutes deux uniformément par l’intermédiaire d'une surface de sortie de lumière (26) de la plaque de guidage de lumière (2). L'invention porte également sur un procédé de fabrication et sur l'utilisation de la source de rétroéclairage (1) ayant le point quantique infrarouge.
(ZH)一种背光源(1)及其显示装置,包括发射可见光的LED光源(10)、导光板(2)和红外量子点(20),其中, LED光源(10)设置在导光板(2)的入光侧,红外量子点(20)设置在导光板(2)的至少一个面上。红外量子点(20)受LED光源(10)发出的可见光的一部分激发后发出红外光, LED光源(10)发出的可见光的另一部分和红外光一起经由导光板(2)的出光面(26)均匀射出。还公开了一种具有红外量子点(20)的背光源(1)的制造方法和用途。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)