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1. (WO2017206208) SUBSTRAT MATRICIEL, DISPOSITIF D'AFFICHAGE ET PROCÉDÉ DE PRÉPARATION DE SUBSTRAT MATRICIEL

Pub. No.:    WO/2017/206208    International Application No.:    PCT/CN2016/086637
Publication Date: Fri Dec 08 00:59:59 CET 2017 International Filing Date: Wed Jun 22 01:59:59 CEST 2016
IPC: H01L 27/12
H01L 21/84
H01L 27/32
Applicants: WUHAN CHINA STAR OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY CO., LTD
武汉华星光电技术有限公司
Inventors: QIN, Fang
秦芳
Title: SUBSTRAT MATRICIEL, DISPOSITIF D'AFFICHAGE ET PROCÉDÉ DE PRÉPARATION DE SUBSTRAT MATRICIEL
Abstract:
La présente invention concerne un substrat matriciel (1), comprenant : un substrat (11) utilisant un matériau organique ; une couche d'isolation (12) utilisant un matériau métallique, la couche d'isolation (12) étant formée sur le substrat (11) ; et une couche tampon (13), la couche tampon (13) étant formée sur un côté de la couche d'isolation (12) orienté à l'opposé du substrat (11). Dans le processus de dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma à haute température, le substrat matriciel (1) peut éviter un problème de pollution provoqué par le bombardement direct, par le plasma, d'un substrat (11) constitué d'un matériau organique. L'invention concerne en outre un dispositif d'affichage (100) utilisant le substrat matriciel (1) et un procédé de préparation du substrat matriciel (1).