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1. (WO2017205503) INHIBITEURS DE KU ET LEUR UTILISATION
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N° de publication :    WO/2017/205503    N° de la demande internationale :    PCT/US2017/034254
Date de publication : 30.11.2017 Date de dépôt international : 24.05.2017
CIB :
A61K 31/5377 (2006.01), A61K 31/4523 (2006.01), A61K 31/4439 (2006.01)
Déposants : INDIANA UNIVERSITY RESEARCH AND TECHNOLOGY CORPORATION [US/US]; 518 Indiana Avenue Indianapolis, IN 46202 (US)
Inventeurs : TURCHI, John, J.; (US).
GAVANDE, Navnath; (US).
VANDERVERE-CAROZZA, Pamela, S.; (US)
Mandataire : LIPTAK, Vincent, P.; (US)
Données relatives à la priorité :
62/340,639 24.05.2016 US
Titre (EN) KU INHIBITORS AND THEIR USE
(FR) INHIBITEURS DE KU ET LEUR UTILISATION
Abrégé : front page image
(EN)The present disclosure relates to certain compounds having binding affinity for Ku, and uses thereof. Specifically, the present disclosure relates to the use of Ku inhibitors as described herein in site-specific genome engineering technologies, including but not limited to CRISPR/Cas9, Zinc finger nuclease (ZFN), Transcription activator-like effector nuclease (TALEN), and meganuclease. The present disclosure also relates to kits useful for site-specific genome engineering that include at least one compound as described herein.
(FR)L'invention concerne certains composés présentant une affinité de liaison pour Ku, ainsi que leurs utilisations. L'invention concerne en particulier l'utilisation d'inhibiteurs de Ku, tels qu'ici décrits, dans des technologies d'ingénierie génomique propre au site, comprenant entre autres CRISPR/Cas9, une nucléase à doigt de zinc (ZFN), une nucléase effectrice de type activateur de transcription (TALEN) et une méganucléase. L'invention concerne également des kits utiles dans l'ingénierie génomique propre au site, comprennant au moins un composé tel que défini dans l'invention.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)