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1. (WO2017205479) SYSTÈME DE DÉPÔT PAR MASQUE PERFORÉ ET PROCÉDÉ ASSOCIÉ

Pub. No.:    WO/2017/205479    International Application No.:    PCT/US2017/034203
Publication Date: Fri Dec 01 00:59:59 CET 2017 International Filing Date: Thu May 25 01:59:59 CEST 2017
IPC: C23C 14/04
C23C 14/50
C23C 14/54
C23C 14/58
Applicants: EMAGIN CORPORATION
Inventors: GHOSH, Amalkumar, P.
VAZAN, Fridrich
ANANDAN, Munisamy
DONOGHUE, Evan
KHAYRULLIN, Ilyas, I.
ALI, Tariq
TICE, Kerry
Title: SYSTÈME DE DÉPÔT PAR MASQUE PERFORÉ ET PROCÉDÉ ASSOCIÉ
Abstract:
Cette invention concerne un système de dépôt direct permettant de former un motif haute résolution d'un matériau sur un substrat. Les atomes vaporisés provenant d'une source d'évaporation passent à travers un motif de trous traversants dans un masque perforé pour se déposer sur le substrat selon le motif souhaité. Le masque perforé est retenu dans un support de masque qui permet de séparer le masque perforé et le substrat d'une distance qui peut être inférieure à dix microns. En conséquence, les atomes vaporisés qui passent à travers le masque perforé présentent peu ou pas d'étalement latéral (c'est-à-dire, une bavure) après avoir traversé ses ouvertures, et le matériau se dépose sur le substrat selon un motif qui présente une très haute fidélité par rapport au motif d'ouvertures du masque perforé.