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1. (WO2017204646) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN FILM MONOCRISTALLIN À MOTIFS
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N° de publication :    WO/2017/204646    N° de la demande internationale :    PCT/NL2017/050343
Date de publication : 30.11.2017 Date de dépôt international : 29.05.2017
CIB :
C30B 1/02 (2006.01), C30B 7/14 (2006.01), C30B 29/02 (2006.01), C30B 33/06 (2006.01), C30B 29/12 (2006.01), C30B 29/16 (2006.01), C30B 29/60 (2006.01)
Déposants : STICHTING ENERGIEONDERZOEK CENTRUM NEDERLAND [NL/NL]; Westerduinweg 3 1755 LE Petten (NL)
Inventeurs : GARNETT, Erik; (NL).
SCIACCA, Beniamino; (NL).
BERKHOUT, Annemarie; (NL)
Mandataire : NEDERLANDSCH OCTROOIBUREAU; P.O. Box 29720 2502 LS The Hague (NL)
Données relatives à la priorité :
2016849 27.05.2016 NL
Titre (EN) METHOD FOR MANUFACTURING A PATTERNED MONOCRYSTALLINE FILM
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN FILM MONOCRISTALLIN À MOTIFS
Abrégé : front page image
(EN)A method for manufacturing a patterned monocrystalline film of a selected material, includes the steps of: -providing a plurality of nanocube particles of the selected material; -assembling the nanocube particles adjacent to each other, such that the assembled nanocube particles are ordered according to the pattern, and adjacent nanocube particles are in the same crystallographic orientation; -epitaxially welding the nanocube particles ordered according to the pattern at each interface to form the patterned monocrystalline film The method can include assembling a patterned device from at least a first patterned monocrystalline film with a first pattern, in which the first patterned monocrystalline film has been created by the method for manufacturing a patterned monocrystalline film.
(FR)L'invention concerne un procédé de fabrication d'un film monocristallin à motifs en un matériau sélectionné comprenant les étapes consistant à : - prendre une pluralité de particules nanocubiques du matériau sélectionné ; - assembler les particules nanocubiques adjacentes les unes aux autres, de telle sorte que les particules nanocubiques assemblées sont ordonnées selon le motif et les particules nanocubiques adjacentes se trouvent dans la même orientation cristallographique ; - souder par épitaxie les particules nanocubiques ordonnées selon le motif en chaque interface pour former le film monocristallin à motifs. Le procédé peut comprendre l'assemblage d'un dispositif à motifs à partir d'au moins un premier film monocristallin à motifs présentant un premier motif, dans lequel le premier film monocristallin à motifs a été créé par le procédé de fabrication d'un film monocristallin à motifs.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)