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1. (WO2017203406) DISPOSITIF STANDARD DE RÉFÉRENCE POUR L'ÉTALONNAGE DE MESURES DE LONGUEUR, ET PROCÉDÉ D'ÉTALONNAGE CORRESPONDANT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication :    WO/2017/203406    N° de la demande internationale :    PCT/IB2017/052957
Date de publication : 30.11.2017 Date de dépôt international : 19.05.2017
CIB :
G01Q 40/02 (2010.01), G01B 15/00 (2006.01), G01B 3/00 (2006.01)
Déposants : ISTITUTO NAZIONALE DI RICERCA METROLOGICA [IT/IT]; Strada delle Cacce, 91 10135 Torino (IT)
Inventeurs : BOARINO, Luca; (IT).
FERRARESE LUPI, Federico; (IT).
APRILE, Giulia; (IT).
DE LEO, Natascia; (IT).
PEREGO, Michele; (IT).
LAUS, Michele; (IT).
ZUCCHERI, Giampaolo; (IT).
SEGUINI, Gabriele; (IT)
Mandataire : CROVINI, Giorgio; (IT)
Données relatives à la priorité :
102016000052889 23.05.2016 IT
Titre (EN) REFERENCE-STANDARD DEVICE FOR CALIBRATION OF MEASUREMENTS OF LENGTH, AND CORRESPONDING CALIBRATION PROCESS
(FR) DISPOSITIF STANDARD DE RÉFÉRENCE POUR L'ÉTALONNAGE DE MESURES DE LONGUEUR, ET PROCÉDÉ D'ÉTALONNAGE CORRESPONDANT
Abrégé : front page image
(EN)A reference-standard device (20) for calibration of measurements of length, comprising a substrate (10) that includes a surface (10a) having at least one calibration pattern (11). According to the invention, this pattern comprises a plurality of nanometric structures (14), said nanometric structures (14) having one and the same section in the plane of said surface and having the same nanometric dimensions, in particular less than 50 nm, said nanometric structures (14) being arranged at a distance from one another by a constant pitch of nanometric length, in particular less than 50 nm, in at least one direction, said nanometric structures (14) being arranged within spatial regions (12) delimited in one or more directions in the plane of the substrate (10), said nanometric structures (14) being obtained via application to said substrate (10) of a process of nanostructuring (100) by means of a mask of block copolymers in order to make calibrations of measurements of length of the order of nanometres.
(FR)Un dispositif standard de référence (20) pour l'étalonnage de mesures de longueur, comprenant un substrat (10) qui comprend une surface (10a) ayant au moins un motif d'étalonnage (11). Selon l'invention, ce motif comprend une pluralité de structures nanométriques (14), lesdites structures nanométriques (14) ayant une seule et même section dans le plan de ladite surface et ayant les mêmes dimensions nanométriques, en particulier inférieures à 50 nm, lesdites structures nanométriques (14) étant agencées à distance les unes des autres par un pas constant de longueur nanométrique, en particulier inférieur à 50 nm, dans au moins une direction, lesdites structures nanométriques (14) étant agencées dans des régions spatiales (12) délimitées dans une ou plusieurs directions dans le plan du substrat (10), lesdites structures nanométriques (14) étant obtenues par application audit substrat (10) d'un procédé de nanostructuration (100) au moyen d'un masque de copolymères séquencés afin d’effectuer des étalonnages de mesures de longueur de l'ordre du nanomètre.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : italien (IT)