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1. (WO2017203144) PROCEDE DE DEPOT DE COUCHES MINCES
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N° de publication :    WO/2017/203144    N° de la demande internationale :    PCT/FR2017/051243
Date de publication : 30.11.2017 Date de dépôt international : 22.05.2017
CIB :
C23C 14/56 (2006.01), C23C 14/58 (2006.01), C23C 14/18 (2006.01), C03C 17/00 (2006.01), C03C 17/245 (2006.01), C23C 14/02 (2006.01), G02B 27/00 (2006.01)
Déposants : SAINT-GOBAIN GLASS FRANCE [FR/FR]; 18 avenue d'Alsace 92400 COURBEVOIE (FR)
Inventeurs : WANAKULE, Nisita; (FR).
MAGNE, Constance; (FR).
BOTTOIS, Clément; (FR)
Mandataire : SAINT-GOBAIN RECHERCHE; Département Propriété Industrielle 39 quai Lucien Lefranc 93300 AUBERVILLIERS (FR)
Données relatives à la priorité :
1654635 24.05.2016 FR
Titre (EN) THIN LAYER DEPOSITION PROCESS
(FR) PROCEDE DE DEPOT DE COUCHES MINCES
Abrégé : front page image
(EN)The invention relates to a process for obtaining a material comprising a substrate coated with a photocatalytic coating, said process comprising a step of depositing by cathode sputtering on said substrate a stack of thin layers successively comprising a first layer of metallic titanium having a thickness of from 1 to 3 nm, an intermediate layer of at least partially oxidized titanium having a thickness of from 0.5 to 5 nm, and a second layer of metallic titanium having a thickness of from 2 to 5 nm; and a step of oxidation using a laser radiation heat treatment, in which the stack is in contact with an oxidizing atmosphere.
(FR)L'invention concerne un procédé d'obtention d'un matériau comprenant un substrat revêtu d'un revêtement photocatalytique, ledit procédé comprenant une étape de dépôt par pulvérisation cathodique sur ledit substrat d'un empilement de couches minces comprenant successivement une première couche de titane métallique ayant une épaisseur de 1 à 3 nm, une couche intermédiaire de titane au moins partiellement oxydé ayant une épaisseur de 0,5 à 5 nm, et une deuxième couche de titane métallique ayant une épaisseur de 2 à 5 nm; et une étape d'oxydation à l'aide d'un traitement thermique par rayonnement laser, dans lequel l'empilement est en contact avec une atmosphère oxydante.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : français (FR)
Langue de dépôt : français (FR)