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1. (WO2017202579) ÉLÉMENT OPTIQUE ET SYSTÈME DE LITHOGRAPHIQUE EXTRÊME ULTRAVIOLET
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N° de publication :    WO/2017/202579    N° de la demande internationale :    PCT/EP2017/060481
Date de publication : 30.11.2017 Date de dépôt international : 03.05.2017
CIB :
G03F 7/20 (2006.01), G21K 1/06 (2006.01), G02B 27/00 (2006.01), G02B 1/18 (2015.01)
Déposants : CARL ZEISS SMT GMBH [DE/DE]; Rudolf-Eber-Strasse 2 73447 Oberkochen (DE)
Inventeurs : HUBER, Peter; (DE).
GONCHAR, Anastasia; (DE)
Mandataire : KOHLER SCHMID MÖBUS PATENTANWÄLTE PARTNERSCHAFTSGESELLSCHAFT MBB; Gropiusplatz 10 70563 Stuttgart (DE)
Données relatives à la priorité :
10 2016 208 987.0 24.05.2016 DE
Titre (DE) OPTISCHES ELEMENT UND EUV-LITHOGRAPHIESYSTEM
(EN) OPTICAL ELEMENT AND EUV LITHOGRAPHIC SYSTEM
(FR) ÉLÉMENT OPTIQUE ET SYSTÈME DE LITHOGRAPHIQUE EXTRÊME ULTRAVIOLET
Abrégé : front page image
(DE)Die Erfindung betrifft ein optisches Element (1) zur Reflexion von EUV- Strahlung (4), umfassend: ein Substrat (2), eine auf dem Substrat (2) gebildete Beschichtung (3) zur Reflexion von EUV-Strahlung (4), wobei die Beschichtung (3) eine Deckschicht (6) mit einer dem Substrat (2) abgewandten Oberfläche aufweist. Zumindest an der Oberfläche der Deckschicht (6) ist eine Oberflächenstruktur gebildet, die Nanostrukturen aufweist, wobei die Nanostrukturen als säulenartige Nanostrukturen ausgebildet sind oder es sich bei den Nanostrukturen um Nanofasern handelt, die ein faserartiges Netzwerk bilden.
(EN)The invention relates to an optical element (1) for reflecting EUV radiation (4), comprising: a substrate (2) and a coating (3) formed on said substrate (2), for reflecting EUV radiation (4), said coating (3) comprising a cover layer (6) with a surface that faces away from said substrate (2). A surface structure is formed at least on the surface of said cover layer (6) and comprises nanostructures, said nanostructures being designed as columnar nanostructures or said nanostructures being nanofibres which form a fibrous network.
(FR)L’invention concerne un élément optique (1) de réflexion d’un rayonnement extrême ultraviolet (EUV) (4), comprenant : un substrat (2), un revêtement (3) appliqué sur le substrat (2) et permettant la réflexion du rayonnement EUV (4), le revêtement (3) présentant une couche de finition (6) dotée d’une surface opposée au substrat (2). Une structure superficielle, formée au moins sur la surface de la couche de finition (6), présente des nanostructures, les nanostructures étant conçues comme des nanostructures de type colonnes ou bien les nanostructures étant des nanofibres qui forment un réseau fibreux.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)