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1. (WO2017201620) SYSTÈME DE MANIPULATION DE GAZ DE SYNTHÈSE À FAIBLE EFFLUENT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication :    WO/2017/201620    N° de la demande internationale :    PCT/CA2017/050627
Date de publication : 30.11.2017 Date de dépôt international : 24.05.2017
CIB :
C10K 1/00 (2006.01), C10K 1/04 (2006.01), C10K 1/32 (2006.01)
Déposants : ALTER NRG CORP. [CA/CA]; Suite 460 227 - 11 Avenue S.W. Calgary, Alberta T2R 1R9 (CA).
HATCH LTD. [CA/CA]; 2699 Speakman Drive Mississauga, Ontario L5K 1B1 (CA)
Inventeurs : KULCHYSKI, Daniel Richard; (CA).
HAQUE, Mirza Ridwanul; (CA).
BROWN, Lucas Alexander; (CA)
Mandataire : SMART & BIGGAR; 900-55 Metcalfe Street Ottawa, Ontario K1P 6L5 (CA)
Données relatives à la priorité :
15/165,448 26.05.2016 US
Titre (EN) LOW-EFFLUENT SYNGAS HANDLING SYSTEM
(FR) SYSTÈME DE MANIPULATION DE GAZ DE SYNTHÈSE À FAIBLE EFFLUENT
Abrégé : front page image
(EN)A system for processing a syngas stream including particulate matter, a combustible gas, and acid components is disclosed. The system includes a gasifier vessel configured to produce a raw syngas stream; a gas cooling apparatus configured to cool the raw syngas stream to produce a cooled syngas stream; an HCl and particulate removal apparatus configured to produce a reduced-HCl syngas stream; a first reheat apparatus configured to produce a first reheated syngas stream; a COS and HCN hydrolysis apparatus configured to produce a hydrolyzed syngas stream; an H2S removal apparatus configured to produce a reduced-H2S syngas stream; a second reheat apparatus configured to produce a second reheated syngas stream; an activated carbon bed apparatus configured to produce a polished syngas stream; and a compression and intercooling apparatus configured to compress and cool the polished syngas stream to produce a clean syngas stream.
(FR)L'invention concerne un système de traitement d'un flux de gaz de synthèse comprenant une matière particulaire, un gaz combustible et des constituants acides. Le système comprend un récipient gazéifieur conçu pour produire un flux de gaz de synthèse brut ; un appareil de refroidissement de gaz conçu pour refroidir le flux de gaz de synthèse brut pour produire un flux de gaz de synthèse refroidi ; un appareil d'élimination de HCl et de particules conçu pour produire un flux de gaz de synthèse à teneur réduite en HCl ; un premier appareil de réchauffage conçu pour produire un premier flux de gaz de synthèse réchauffé ; un appareil d'hydrolyse de COS et de HCN conçu pour produire un flux de gaz de synthèse hydrolysé ; un appareil d'élimination de H2S conçu pour produire un flux de gaz de synthèse à teneur réduite en H2S ; un second appareil de réchauffage conçu pour produire un second flux de gaz de synthèse réchauffé ; un appareil à lit de charbon actif conçu pour produire un flux de gaz de synthèse raffiné ; et un appareil de compression et de refroidissement intermédiaire conçu pour comprimer et refroidir le flux de gaz de synthèse raffiné afin de produire un flux de gaz de synthèse propre.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)