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1. (WO2017200733) CHAMBRE DE TRAITEMENT AU PLASMA À CADRE SANS OMBRE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication :    WO/2017/200733    N° de la demande internationale :    PCT/US2017/030212
Date de publication : 23.11.2017 Date de dépôt international : 28.04.2017
CIB :
C23C 16/458 (2006.01), C23C 16/505 (2006.01)
Déposants : APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, California 95054 (US)
Inventeurs : CHOI, Young-Jin; (US).
PARK, Beom Soo; (US).
LEE, Dongsuh; (US).
STERLING, William Norman; (US).
TINER, Robin L.; (US).
KURITA, Shinichi; (US).
ANWAR, Suhail; (US).
CHOI, Soo Young; (US).
CUI, Yi; (US)
Mandataire : PATTERSON, B. Todd; (US).
TABOADA, Keith; (US)
Données relatives à la priorité :
15/157,076 17.05.2016 US
Titre (EN) NON-SHADOW FRAME PLASMA PROCESSING CHAMBER
(FR) CHAMBRE DE TRAITEMENT AU PLASMA À CADRE SANS OMBRE
Abrégé : front page image
(EN)Embodiments described herein generally relate to a substrate support assembly. The substrate support assembly includes a support plate and a ceramic layer. The support plate has a top surface. The top surface includes a substrate receiving area configured to support a large area substrate and an outer area located outward of the substrate receiving area.
(FR)Des modes de réalisation de l'invention concernent de façon générale un ensemble formant support de substrat. L'ensemble formant support de substrat comprend une plaque de support et une couche céramique. La plaque de support possède une surface supérieure. La surface supérieure comprend une zone de réception de substrat conçue pour supporter un substrat ayant une aire de grande taille et une zone extérieure située à l'extérieur de la zone de réception de substrat.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)