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1. (WO2017198418) COMPOSITIONS DE RÉSERVE
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N° de publication : WO/2017/198418 N° de la demande internationale : PCT/EP2017/059475
Date de publication : 23.11.2017 Date de dépôt international : 21.04.2017
CIB :
G03F 7/004 (2006.01)
Déposants : ASML NETHERLANDS B.V.[NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven, NL
Inventeurs : VOORTHUIJZEN, Willem-Pieter; NL
VAN LARE, Marie-Claire; NL
WUISTER, Sander, Frederik; NL
Mandataire : FILIP, Diana; NL
Données relatives à la priorité :
16170399.619.05.2016EP
Titre (EN) RESIST COMPOSITIONS
(FR) COMPOSITIONS DE RÉSERVE
Abrégé : front page image
(EN) A resist composition comprising a) metal-containing nanoparticles and/or nanoclusters, and b) ligands and or organic linkers, wherein one or both of a) or b) are multivalent. A resist composition wherein: i) the resist composition is a negative resist and the nanoparticles and/or nanoclusters cluster upon crosslinking of the ligands and/or organic linkers following exposure to electromagnetic radiation or an electron beam; or ii) the resist composition is a negative resist and the ligands and/or organic linkers are crosslinked and the crosslinking bonds are broken upon exposure to electromagnetic radiation or an electron beam allowing the nanoparticles and/or nanoclusters to cluster together; or the resist composition is a positive resist and the ligands and/or organic linkers are crosslinked and the crosslinking bonds are broken upon exposure to electromagnetic radiation or an electron beam.
(FR) L'invention concerne une composition de réserve comprenant a) des nanoparticules et/ou des nanogroupes comportant du métal, et b) des ligands et/ou des lieurs organiques, l'un ou les deux parmi a) ou b) étant polyvalents. L'invention concerne une composition de réserve dans laquelle : i) la composition de réserve est une réserve négative et les nanoparticules et/ou les nanogroupes se groupent lors de la réticulation des ligands et/ou des lieurs organiques après exposition à un rayonnement électromagnétique ou à un faisceau d'électrons; ou ii) la composition de réserve est une réserve négative et les ligands et/ou les lieurs organiques sont réticulés et les liaisons de réticulation sont rompues après exposition à un rayonnement électromagnétique ou à un faisceau d'électrons permettant aux nanoparticules et/ou aux nanogroupes de se grouper ensemble; ou la composition de réserve est une réserve positive et les ligands et/ou les lieurs organiques sont réticulés et les liaisons de réticulation sont rompues après exposition à un rayonnement électromagnétique ou à un faisceau d'électrons.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)