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1. (WO2017198077) ENSEMBLE DE DÉCHARGE ÉLECTROSTATIQUE, SUBSTRAT MATRICIEL ET SON PROCÉDÉ DE PRÉPARATION, ET ÉCRAN D'AFFICHAGE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication :    WO/2017/198077    N° de la demande internationale :    PCT/CN2017/083204
Date de publication : 23.11.2017 Date de dépôt international : 05.05.2017
CIB :
H01L 27/02 (2006.01), H01L 27/12 (2006.01)
Déposants : BOE TECHNOLOGY GROUP CO., LTD. [CN/CN]; No. 10 Jiuxianqiao Rd., Chaoyang District Beijing 100015 (CN).
ORDOS YUANSHENG OPTOELECTRONICS CO., LTD. [CN/CN]; Ordos Equipment Manufacturing Base Dongsheng District Ordos, Inner Mongolia 017020 (CN)
Inventeurs : LIU, Chen Ting; (CN).
PAN, Xiaodong; (CN).
HU, Zhiming; (CN).
NAN, Chunxiang; (CN)
Mandataire : LIU, SHEN & ASSOCIATES; 10th Floor, Building 1 10 Caihefang Road, Haidian District Beijing 100080 (CN)
Données relatives à la priorité :
201610321379.5 16.05.2016 CN
Titre (EN) ELECTROSTATIC DISCHARGE ASSEMBLY, ARRAY SUBSTRATE AND PREPARATION METHOD THEREFOR, AND DISPLAY PANEL
(FR) ENSEMBLE DE DÉCHARGE ÉLECTROSTATIQUE, SUBSTRAT MATRICIEL ET SON PROCÉDÉ DE PRÉPARATION, ET ÉCRAN D'AFFICHAGE
(ZH) 静电释放组件、阵列基板及其制备方法、显示面板
Abrégé : front page image
(EN)An electrostatic discharge assembly, array substrate and preparation method therefor, and display panel. The electrostatic discharge assembly comprises: a substrate (10), a semiconductor layer (20) disposed on the substrate (10), an insulating layer (30), a first auxiliary electrode (401), a first electrode (50) and a second electrode (60); the first electrode (50) and the second electrode (60) are spacedly disposed and are respectively in contact with the semiconductor layer (20); the first auxiliary electrode (401) is in contact with one of the first electrode (50) and the second electrode (60); and the insulation layer (30) is provided between the first auxiliary electrode (401) and one of the first electrode (50) and the second electrode (60). The electrostatic discharge assembly can be used to release and neutralize static electricity.
(FR)L'invention porte sur un ensemble de décharge électrostatique, sur un substrat matriciel et son procédé de préparation, et sur un écran d'affichage. L'ensemble de décharge électrostatique comprend : un substrat (10), une couche semi-conductrice (20) disposée sur le substrat (10), une couche isolante (30), une première électrode auxiliaire (401), une première électrode (50) et une seconde électrode (60); la première électrode (50) et la seconde électrode (60) sont disposées de manière espacée et sont respectivement en contact avec la couche semi-conductrice (20); la première électrode auxiliaire (401) est en contact avec une électrode parmi la première électrode (50) et la seconde électrode (60); et la couche isolante (30) est disposée entre la première électrode auxiliaire (401) et une électrode parmi la première électrode (50) et de la seconde électrode (60). L'ensemble de décharge électrostatique peut être utilisé pour libérer et neutraliser l'électricité statique.
(ZH)一种静电释放组件、阵列基板及其制备方法、显示面板。静电释放组件包括:衬底基板(10),设置在衬底基板(10)上的半导体层(20)、绝缘层(30)、第一辅助电极(401)、第一电极(50)和第二电极(60);其中,第一电极(50)和第二电极(60)彼此间隔设置且分别与半导体层(20)接触,第一辅助电极(401)与第一电极(50)和第二电极(60)之一接触,绝缘层(30)设置在第一电极(50)和第二电极(60)二者与第一辅助电极(401)之间。静电释放组件可以用于释放与中和静电。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)