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1. (WO2017197937) APPAREIL D'APPLICATION DE FORCE ANTAGONISTE, APPAREIL DE FABRICATION DE MASQUE ET PROCÉDÉ CORRESPONDANT
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N° de publication :    WO/2017/197937    N° de la demande internationale :    PCT/CN2017/073804
Date de publication : 23.11.2017 Date de dépôt international : 16.02.2017
CIB :
H01L 51/56 (2006.01), C23C 14/04 (2006.01)
Déposants : BOE TECHNOLOGY GROUP CO., LTD. [CN/CN]; No.10 Jiuxianqiao Rd. Chaoyang District Beijing 100015 (CN).
ORDOS YUANSHENG OPTOELECTRONICS CO., LTD. [CN/CN]; Ordos Equipment Manufacturing Base Dongsheng District Ordos, Inner Mongolia 017020 (CN)
Inventeurs : LIN, Zhiming; (CN).
WANG, Zhen; (CN).
HUANG, Chun Chieh; (CN).
ZHANG, Jian; (CN)
Mandataire : ZHONGZI LAW OFFICE; 7F, New Era Building 26 Pinganli Xidajie Xicheng District Beijing 100034 (CN)
Données relatives à la priorité :
201610332615.3 19.05.2016 CN
Titre (EN) COUNTERFORCE APPLYING APPARATUS, MASK MANUFACTURING APPARATUS, AND CORRESPONDING METHOD
(FR) APPAREIL D'APPLICATION DE FORCE ANTAGONISTE, APPAREIL DE FABRICATION DE MASQUE ET PROCÉDÉ CORRESPONDANT
(ZH) 对抗力施加装置、掩膜制造装置及相应方法
Abrégé : front page image
(EN)A counterforce applying apparatus (300), a mask manufacturing apparatus, and a corresponding method. The counterforce applying apparatus comprises: one or more applying apparatus bodies (303); one or more contact components (301) pivotally connected to each applying apparatus body, where the contact components are configured for use in contacting a frame (304), the applying apparatus bodies are configured for use in driving the contact components by moving and applying a counterforce to the frame via the contact components, and the degree of rotational freedom of the contact component is limited.
(FR)L'invention concerne un appareil d'application de force antagoniste (300), un appareil de fabrication de masque et un procédé correspondant. L'appareil d'application de force antagoniste comprend : un ou plusieurs corps d'appareil d'application (303) ; un ou plusieurs éléments de contact (301) reliés pivotants à chaque corps d'appareil d'application, les éléments de contact étant conçus pour être utilisés pour entrer en contact avec une structure (304), les corps d'appareil d'application étant conçus pour être utilisés pour entraîner les éléments de contact par déplacement et pour appliquer une force antagoniste sur la structure par l'intermédiaire des éléments de contact, et le degré de liberté de rotation de l'élément de contact étant limité.
(ZH)一种对抗力施加装置(300)、掩膜制造装置及相应方法,该对抗力施加装置包括:一个或多个施加装置主体(303);与每个施加装置主体枢转连接的一个或多个接触构件(301),其中,该接触构件被配置为用于与框架(304)相接触,该施加装置主体被配置为用于通过移动带动该接触构件并通过该接触构件向框架施加对抗力,其中该接触构件的旋转自由度受到限制。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)