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1. (WO2017197915) MASQUE DE PHOTOLITHOGRAPHIE, SON PROCÉDÉ DE FABRICATION ET PROCÉDÉ DE PHOTOLITHOGRAPHIE

Pub. No.:    WO/2017/197915    International Application No.:    PCT/CN2017/070816
Publication Date: Fri Nov 24 00:59:59 CET 2017 International Filing Date: Thu Jan 12 00:59:59 CET 2017
IPC: G03F 1/40
Applicants: BOE TECHNOLOGY GROUP CO., LTD.
京东方科技集团股份有限公司
BEIJING BOE OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY CO., LTD.
北京京东方光电科技有限公司
Inventors: LV, Zhenhua
吕振华
CHEN, Xi
陈希
WANG, Shijun
王世君
BAO, Zhiying
包智颖
ZHANG, Yong
张勇
LI, Yue
李月
XIAO, Wenjun
肖文俊
XUE, Yanna
薛艳娜
JIANG, Wenbo
姜文博
Title: MASQUE DE PHOTOLITHOGRAPHIE, SON PROCÉDÉ DE FABRICATION ET PROCÉDÉ DE PHOTOLITHOGRAPHIE
Abstract:
L'invention concerne un masque de photolithographie, son procédé de fabrication et un procédé de photolithographie dans lequel est utilisé ledit masque de photolithographie. Le masque de photolithographie comprend un substrat (3), un motif de masque disposé sur une surface du substrat (3), et un motif de connexion conducteur (2) disposé sur la surface, le motif de connexion conducteur (2) étant utilisé pour connecter électriquement des parties séparées (1a, 1b, 1c, 1d) du motif de masque.