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1. (WO2017195674) APPAREIL DE FABRICATION DE COUCHE MINCE ORGANIQUE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE COUCHE MINCE ORGANIQUE
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N° de publication :    WO/2017/195674    N° de la demande internationale :    PCT/JP2017/017045
Date de publication : 16.11.2017 Date de dépôt international : 28.04.2017
CIB :
C23C 14/24 (2006.01), C23C 14/12 (2006.01), C23C 14/54 (2006.01), H01L 51/50 (2006.01), H05B 33/10 (2006.01)
Déposants : ULVAC, INC. [JP/JP]; 2500, Hagisono, Chigasaki-shi, Kanagawa 2538543 (JP)
Inventeurs : KIMURA Tooru; (JP)
Mandataire : ISHIJIMA Shigeo; (JP).
ABE Hideki; (JP)
Données relatives à la priorité :
2016-097476 13.05.2016 JP
Titre (EN) APPARATUS FOR MANUFACTURING ORGANIC THIN FILM, AND METHOD FOR MANUFACTURING ORGANIC THIN FILM
(FR) APPAREIL DE FABRICATION DE COUCHE MINCE ORGANIQUE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE COUCHE MINCE ORGANIQUE
(JA) 有機薄膜製造装置、有機薄膜製造方法
Abrégé : front page image
(EN)Provided is an apparatus for manufacturing an organic thin film, the apparatus being capable of stably releasing vapor. In an apparatus 10 for manufacturing an organic thin film, heat is supplied to an evaporation vessel 33 to heat an organic material 37 and release vapor. A calculated temperature indicating the temperature of the organic material 37 is obtained from the growth rate of an organic thin film formed on a film-forming target 15, the measured temperature of the evaporation vessel 33 is compared with the calculated temperature, and the supply rate of heat supplied to the evaporation vessel 33 is varied according to temperature deviations. According to the present invention, the amount of heat fluctuation is small, and thus vapor is stably released. When the measured growth rate approaches a target growth rate, the amount of heat variation is reduced, and thus vapor is stably released.
(FR)L'invention concerne un appareil de fabrication d'une couche mince organique, l'appareil étant capable de libérer de la vapeur de manière stable. Dans un appareil (10) pour fabriquer une couche mince organique, la chaleur est fournie à une cuve d'évaporation (33) pour chauffer une matière organique (37) et libérer de la vapeur. Une température calculée indiquant la température de la matière organique (37) est obtenue à partir du taux de croissance d'une couche mince organique formée sur une cible de formation de film (15), la température mesurée de la cuve d'évaporation (33) est comparée à la température calculée, et le taux d'alimentation de chaleur fournie à la cuve d'évaporation (33) est varié selon des écarts de température. Selon la présente invention, la quantité de fluctuation de chaleur est faible et, ainsi, la vapeur est libérée de manière stable. Lorsque le taux de croissance mesuré s'approche d'un taux de croissance cible, la quantité de variation de chaleur est réduite et, ainsi, la vapeur est libérée de manière stable.
(JA)安定して蒸気を放出できる有機薄膜製造装置を提供する。蒸発容器33に熱を供給して有機材料37を加熱し、蒸気を放出させる有機薄膜製造装置10であり、成膜対象物15に形成される有機薄膜の成長速度から有機材料37の温度を示す算出温度を求め、蒸発容器33の測定温度と算出温度とを比較し、蒸発容器33に供給する熱の供給速度を、温度偏差に応じて変化させる。熱の変動が小さいので、蒸気放出が安定する。測定成長速度が、目標の成長速度に近づくと、熱量の変化を小さくするので、蒸気放出が安定する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)