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PATENTSCOPE

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1. (WO2017195453) LIQUIDE DÉCAPANT POUR RÉSERVE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication : WO/2017/195453 N° de la demande internationale : PCT/JP2017/009760
Date de publication : 16.11.2017 Date de dépôt international : 10.03.2017
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 : 01.11.2017
CIB :
G03F 7/42 (2006.01)
Déposants : JCU CORPORATION[JP/JP]; TIXTOWER UENO 16th floor, 8-1, Higashiueno 4-chome, Taito-ku, Tokyo 1100015, JP
Inventeurs : SHONO Hiroki; JP
ARASHIRO Sayaka; JP
Mandataire : THE PATENT CORPORATE BODY OF ONO & CO.; 20-5, Nihonbashihakozaki-cho, Chuo-ku, Tokyo 1030015, JP
Données relatives à la priorité :
2016-09695513.05.2016JP
Titre (EN) REMOVER LIQUID FOR RESIST
(FR) LIQUIDE DÉCAPANT POUR RÉSERVE
(JA) レジストの剥離液
Abrégé :
(EN) Provided is a remover liquid for resists which is characterized by containing a quaternary ammonium salt, an alkanolamine, and an aliphatic amine. Even when the remover liquid is used over days and carbonic acid dissolves therein with a lapse of the days, the remover liquid is less apt to deteriorate in performance.
(FR) L'invention concerne un liquide décapant pour réserves qui est caractérisé en ce qu'il contient un sel d'ammonium quaternaire, une alcanolamine et une amine aliphatique. Même lorsque le liquide décapant est utilisé pendant des jours et que l'acide carbonique se dissout dans celui-ci tout au long de ces jours, le liquide décapant est moins susceptible de se détériorer en termes de performances.
(JA) 第4級アンモニウム塩と、アルカノールアミンおよび脂肪族アミンを含有することを特徴とするレジストの剥離液により使用日数が経過して炭酸が溶解しても性能が低下しにくいレジストの剥離液を提供する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)