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1. (WO2017195244) DISPOSITIF LASER
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N° de publication :    WO/2017/195244    N° de la demande internationale :    PCT/JP2016/063716
Date de publication : 16.11.2017 Date de dépôt international : 09.05.2016
CIB :
H01S 3/036 (2006.01)
Déposants : GIGAPHOTON INC. [JP/JP]; 400, Oaza Yokokurashinden, Oyama-shi, Tochigi 3238558 (JP)
Inventeurs : ASAYAMA Takeshi; (JP)
Mandataire : HOSAKA Nobuhisa; (JP)
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) LASER DEVICE
(FR) DISPOSITIF LASER
(JA) レーザ装置
Abrégé : front page image
(EN)A control unit for this laser device selects one among a first gas control and a second gas control on the basis of gas pressure measured using a pressure sensor. In the first gas control, at least one among a first laser gas and a second laser gas is supplied to a chamber and the gas pressure in the chamber after the first gas control is increased in comparison to the gas pressure in the chamber before the first gas control. In the second gas control, at least the first laser gas is supplied to the chamber, some of the laser gas in the chamber is discharged, and the difference between the gas pressure in the chamber before the second gas control and the gas pressure in the chamber after the second gas control is set smaller than the difference between the gas pressure in the chamber before the first gas control and the gas pressure in the chamber after the first gas control.
(FR)L'invention concerne un dispositif laser dont l'unité de commande sélectionne une première commande de gaz ou une seconde commande de gaz sur la base d'une pression de gaz mesurée à l'aide d'un capteur de pression. Dans la première commande de gaz, au moins un premier gaz laser ou un second gaz laser est introduit dans une chambre et la pression de gaz dans la chambre après la première commande de gaz est augmentée par rapport à la pression de gaz dans la chambre avant la première commande de gaz. Dans la seconde commande de gaz, au moins le premier gaz laser est introduit dans la chambre, une partie du gaz laser dans la chambre est évacuée, et la différence entre la pression de gaz dans la chambre avant la seconde commande de gaz et la pression de gaz dans la chambre après la seconde commande de gaz est réglée inférieure à la différence entre la pression de gaz dans la chambre avant la première commande de gaz et la pression de gaz dans la chambre après la première commande de gaz.
(JA)レーザ装置の制御部は、圧力センサを用いて計測されたガス圧に基づいて、第1のガス制御及び第2のガス制御の内の一方を選択し、第1のガス制御においては、チャンバの内部に第1のレーザガスと第2のレーザガスとの内の少なくとも一方を供給し、第1のガス制御の前のチャンバの内部のガス圧よりも第1のガス制御の後のチャンバの内部のガス圧を増加させ、第2のガス制御においては、チャンバの内部に少なくとも第1のレーザガスを供給し、チャンバの内部のレーザガスの一部を排気し、第2のガス制御の前のチャンバの内部のガス圧と第2のガス制御の後のチャンバの内部のガス圧との差を、第1のガス制御の前のチャンバの内部のガス圧と第1のガス制御の後のチャンバの内部のガス圧との差よりも小さくする。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)