WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2017192994) PROFILAGE DE TRANCHE POUR UN SYSTÈME DE GRAVURE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication :    WO/2017/192994    N° de la demande internationale :    PCT/US2017/031302
Date de publication : 09.11.2017 Date de dépôt international : 05.05.2017
CIB :
H01L 21/306 (2006.01), H01L 21/67 (2006.01)
Déposants : APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, California 95054 (US)
Inventeurs : CHEUNG, Jeffrey, Chi; (US).
GHEKIERE, John; (US).
LEONHARD, Jerry, D.; (US).
SURDOCK, David, P.; (US).
SHAFER, Benjamin; (US).
YOUNG, Ray; (US)
Mandataire : GOREN, David, J.; (US)
Données relatives à la priorité :
62/332,992 06.05.2016 US
62/489,329 24.04.2017 US
Titre (EN) WAFER PROFILING FOR ETCHING SYSTEM
(FR) PROFILAGE DE TRANCHE POUR UN SYSTÈME DE GRAVURE
Abrégé : front page image
(EN)A substrate etching system includes a support to hold a wafer in a face-up orientation, a dispenser arm movable laterally across the wafer on the support, the dispenser arm supporting a delivery port to selectively dispense a liquid etchant onto a portion of a top face of the wafer, and a monitoring system comprising a probe movable laterally across the wafer on the support.
(FR)L'invention concerne un système de gravure de substrat qui comprend un support pour maintenir une tranche orientée vers le haut, un bras de distribution pouvant se déplacer latéralement sur l'ensemble de la tranche sur le support, le bras de distribution supportant un orifice de distribution pour distribuer de manière sélective un agent de gravure liquide sur une partie d'une face supérieure de la tranche, et un système de surveillance comprenant une sonde pouvant se déplacer latéralement sur l'ensemble de la tranche sur le support.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)