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1. (WO2017192249) PROCESSUS DE TRAITEMENT PAR PLASMA DESTINÉ À UNE AMÉLIORATION DE L'EFFICACITÉ DE NETTOYAGE DE CHAMBRE IN SITU DANS UNE CHAMBRE DE TRAITEMENT PAR PLASMA

Pub. No.:    WO/2017/192249    International Application No.:    PCT/US2017/027020
Publication Date: Fri Nov 10 00:59:59 CET 2017 International Filing Date: Wed Apr 12 01:59:59 CEST 2017
IPC: H01L 21/02
H01L 21/3065
H01L 21/67
H01J 37/32
Applicants: APPLIED MATERIALS, INC.
Inventors: ZHANG, Lin
LU, Xuesong
LE, Andrew V.
OH, Jang Seok
HAN, Xinhai
Title: PROCESSUS DE TRAITEMENT PAR PLASMA DESTINÉ À UNE AMÉLIORATION DE L'EFFICACITÉ DE NETTOYAGE DE CHAMBRE IN SITU DANS UNE CHAMBRE DE TRAITEMENT PAR PLASMA
Abstract:
Selon l'invention, des modes de réalisation concernent des procédés de processus d'amélioration de l'efficacité de nettoyage de chambre in situ d'une chambre de traitement par plasma utilisée en vue d'un processus de fabrication de substrat à semi-conducteurs. Selon un mode de réalisation, un procédé permettant d'effectuer un processus de traitement par plasma après nettoyage d'un processus par plasma consiste à effectuer un processus de nettoyage dans une chambre de traitement par plasma en l'absence d'un substrat disposé sur cette dernière, puis à fournir un mélange de gaz de traitement par plasma comprenant au moins un gaz hydrogéné et/ou un gaz oxygéné dans la chambre de traitement par plasma, à appliquer une énergie de source RF à la chambre de traitement de façon à former un plasma à partir du mélange de gaz de traitement par plasma, et à traiter par plasma une surface intérieure de la chambre de traitement.