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1. (WO2017191767) COMPOSITION DE FORMATION DE FILM PROTECTEUR COMPRENANT UN AGENT DE RÉTICULATION SPÉCIFIÉ, ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF DANS LEQUEL CETTE DERNIÈRE EST UTILISÉE
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N° de publication :    WO/2017/191767    N° de la demande internationale :    PCT/JP2017/016043
Date de publication : 09.11.2017 Date de dépôt international : 21.04.2017
CIB :
G03F 7/11 (2006.01), G03F 7/26 (2006.01), H01L 21/306 (2006.01)
Déposants : NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. [JP/JP]; 7-1, Kanda-Nishiki-cho 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010054 (JP)
Inventeurs : OHASHI, Tomoya; (JP).
OGATA, Hiroto; (JP).
HASHIMOTO, Yuto; (JP).
USUI, Yuki; (JP).
SAKAIDA, Yasushi; (JP).
KISHIOKA, Takahiro; (JP)
Mandataire : HANABUSA PATENT & TRADEMARK OFFICE; Shin-Ochanomizu Urban Trinity, 2, Kandasurugadai 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010062 (JP)
Données relatives à la priorité :
2016-092727 02.05.2016 JP
2016-205489 19.10.2016 JP
Titre (EN) PROTECTIVE FILM FORMATION COMPOSITION INCLUDING SPECIFIED CROSSLINKING AGENT, AND PATTERN FORMATION METHOD IN WHICH SAME IS USED
(FR) COMPOSITION DE FORMATION DE FILM PROTECTEUR COMPRENANT UN AGENT DE RÉTICULATION SPÉCIFIÉ, ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF DANS LEQUEL CETTE DERNIÈRE EST UTILISÉE
(JA) 特定の架橋剤を含む保護膜形成組成物及びそれを用いたパターン形成方法
Abrégé : front page image
(EN)[Problem] To provide a protective film formation composition with respect to a basic hydrogen peroxide solution. [Solution] A protective film formation composition with respect to a basic hydrogen peroxide solution, the composition including: a crosslinking agent having within one molecule two or more of at least one selected from the group consisting of glycidyl groups, terminal epoxy groups, epoxy cyclopentyl groups, epoxy cyclohexyl groups, oxetanyl groups, vinyl ether groups, isocyanate groups, and block isocyanate groups; a compound having the group represented in formula (1) in a side chain or a terminal and having a weight-average molecular weight of 800 or more; and an organic solvent. Compound 1: (In the formula, X1 represents a substituent group that reacts with the crosslinking agent; R0 represents a direct bond or a C1 or C2 alkylene group; X2 represents a C1 or C2 alkyl group, a C1 or C2 alkoxy group, or a fluoro group; a represents an integer from 0 to 2; b represents an integer from 1 to 3; c represents an integer from 0 to 4; and b and c satisfy the relational equation 1 ≤ (b + c) ≤ 5.)
(FR)Le problème décrit par la présente invention est de fournir une composition de formation de film protecteur par rapport à une solution basique de peroxyde d'hydrogène. La solution selon l'invention porte sur une composition de formation de film protecteur par rapport à une solution basique de peroxyde d'hydrogène, la composition comprenant : un agent de réticulation ayant dans une molécule deux ou plus d'au moins un élément choisi dans le groupe consistant en groupes glycidyle, groupes époxy terminaux, groupes époxy cyclopentyle, groupes époxy cyclohexyle, groupes oxétanyle, groupes éther de vinyle, groupes isocyanate et groupes isocyanate à blocs ; un composé ayant le groupe représenté par la formule (1) dans une chaîne latérale ou une extrémité terminale et ayant une masse moléculaire moyenne en poids de 800 ou plus ; et un solvant organique. Composé 1 : (dans la formule, X1 représente un groupe substituant qui réagit avec l'agent de réticulation ; R0 représente une liaison directe ou un groupe alkylène en C1 ou C2 ; X2 représente un groupe alkyle en C1 ou C2, un groupe alcoxy en C1 ou C2, ou un groupe fluoro ; a représente un nombre entier de 0 à 2 ; b représente un nombre entier de 1 à 3 ; c représente un nombre entier de 0 à 4 ; et b et c satisfont à l'équation relationnelle 1 ≤ (b + c) ≤ 5).
(JA)【課題】 塩基性過酸化水素水溶液に対する保護膜形成組成物を提供する。 【解決手段】 グリシジル基、末端エポキシ基、エポキシシクロペンチル基、エポキシシクロヘキシル基、オキセタニル基、ビニルエーテル基、イソシアネート基及びブロックイソシアネート基からなる群から選ばれる少なくとも1種の基を1分子中に2つ以上有する架橋剤、下記式(1)で表される基を側鎖又は末端に有し重量平均分子量が800以上である化合物、及び有機溶剤を含む、塩基性過酸化水素水溶液に対する保護膜形成組成物。 (式中、Xは前記架橋剤と反応する置換基を表し、R0は直接結合又は炭素原子数1又は2のアルキレン基を表し、Xは炭素原子数1又は2のアルキル基、炭素原子数1又は2のアルコキシ基、又はフルオロ基を表し、aは0乃至2の整数を表し、bは1乃至3の整数を表し、cは0乃至4の整数を表し、bとcは1≦(b+c)≦5の関係式を満たす。)
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)