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1. (WO2017190863) DISPOSITIF ET PROCÉDÉ D'ÉTALONNAGE D'UN SYSTÈME D'EXPOSITION D'UN APPAREIL DE PRODUCTION D'UNE PIÈCE TRIDIMENSIONNELLE
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N° de publication :    WO/2017/190863    N° de la demande internationale :    PCT/EP2017/054024
Date de publication : 09.11.2017 Date de dépôt international : 22.02.2017
CIB :
B29C 67/00 (2017.01), G05B 19/401 (2006.01), B22F 3/105 (2006.01)
Déposants : SLM SOLUTIONS GROUP AG [DE/DE]; Roggenhorster Strasse 9c 23556 Luebeck (DE)
Inventeurs : ROESGEN, Lukas; (DE).
WILKES, Jan; (DE)
Mandataire : SCHICKER, Silvia; (DE)
Données relatives à la priorité :
16168293.5 04.05.2016 EP
Titre (EN) DEVICE AND METHOD FOR CALIBRATING AN IRRADIATION SYSTEM OF AN APPARATUS FOR PRODUCING A THREE-DIMENSIONAL WORK PIECE
(FR) DISPOSITIF ET PROCÉDÉ D'ÉTALONNAGE D'UN SYSTÈME D'EXPOSITION D'UN APPAREIL DE PRODUCTION D'UNE PIÈCE TRIDIMENSIONNELLE
Abrégé : front page image
(EN)A device (48) for calibrating an irradiation system (18) of an apparatus (10) for producing a three-dimensional work piece comprises a control unit (50) adapted to control the irradiation system (18) so as to irradiate a radiation beam (22; 22a, 22b) onto an irradiation plane (52) according to a calibration pattern. The device (48) further comprises a sensor arrangement (56) adapted to be arranged in the irradiation plane (52) and to output signals to the control unit (50) in response to being irradiated with the radiation beam (22; 22a, 22b) according to the calibration pattern. The control unit (50) further is adapted to generate a digital image of an actual irradiation pattern produced by the radiation beam (22; 22a, 22b) incident on the sensor arrangement (56) based on the signals output by the sensor arrangement (56), to compare the digital image of the actual irradiation pattern with a digital image of a reference pattern so as to determine a deviation between the actual irradiation pattern and the reference pattern, and to calibrate the irradiation system (18) based on the determined deviation between the actual irradiation pattern and the reference pattern.
(FR)L’invention concerne un dispositif (48) destiné à l’étalonnage d’un système d'exposition (18) d'un appareil (10) pour produire une pièce tridimensionnelle comprenant une unité de commande (50) apte à commander le système d'exposition (18) de façon à émettre un faisceau de rayonnement (22 ; 22a, 22b) sur un plan d'exposition (52) selon un motif d'étalonnage. Le dispositif (48) comprend en outre un agencement de capteur (56) conçu pour être agencé dans le plan d'exposition (52) et pour délivrer en sortie des signaux vers l'unité de commande (50) en réponse à son exposition au faisceau de rayonnement (22 ; 22a, 22b) en fonction du motif d'étalonnage. L'unité de commande (50) est en outre conçue pour générer une image numérique d'un motif d'exposition réel produit par le faisceau de rayonnement (22 ; 22a, 22b) incident sur l'agencement de capteur (56) sur la base des signaux délivrés en sortie par l'agencement de capteur (56), pour comparer l'image numérique du motif d'exposition réel à une image numérique d'un motif de référence de façon à déterminer un écart entre le motif d'exposition réel et le motif de référence, et pour étalonner le système d'exposition (18) sur la base de l'écart déterminé entre le motif d'exposition réel et le motif de référence.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)