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1. (WO2017188213) FEUILLE COMPOSITE POUR LA FORMATION D'UNE MEMBRANE DE PROTECTION
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N° de publication : WO/2017/188213 N° de la demande internationale : PCT/JP2017/016280
Date de publication : 02.11.2017 Date de dépôt international : 25.04.2017
CIB :
B32B 27/16 (2006.01) ,C09J 7/02 (2006.01) ,H01L 21/301 (2006.01) ,H01L 23/00 (2006.01)
Déposants : LINTEC CORPORATION[JP/JP]; 23-23, Honcho, Itabashi-ku, Tokyo 1730001, JP
Inventeurs : SATO Akinori; JP
INAO Youichi; JP
Mandataire : SHIGA Masatake; JP
TAKAHASHI Norio; JP
IGARASHI Koei; JP
Données relatives à la priorité :
2016-09203228.04.2016JP
Titre (EN) COMPOSITE SHEET FOR PROTECTIVE MEMBRANE FORMATION
(FR) FEUILLE COMPOSITE POUR LA FORMATION D'UNE MEMBRANE DE PROTECTION
(JA) 保護膜形成用複合シート
Abrégé : front page image
(EN) The present invention provides a composite sheet for protective membrane formation, which is capable of forming a protective membrane on a rear surface of a semiconductor wafer or a semiconductor chip, has a favorable dicing suitability, and is provided with an energy ray-curable film for protective membrane formation. This composite sheet 1A for protective membrane formation is provided with an energy ray-curable film 13 for protective membrane formation on a support sheet 10, and the adhesive force between the protective membrane and the support sheet 10 is 100-2000 mN/25 mm when the energy ray-curable film 13 for protective membrane formation is irradiated with an energy ray to form the protective membrane.
(FR) La présente invention concerne une feuille composite pour la formation d'une membrane de protection, qui a la capacité de former une membrane de protection sur une surface arrière d'une tranche de semi-conducteur ou d'une puce à semi-conducteur, présente une aptitude au découpage en dés favorable, et est pourvu d'un film durcissable par rayonnement d'énergie pour la formation d'une membrane de protection. Cette feuille composite 1A pour la formation d'une membrane de protection est pourvue d'un film durcissable par rayonnement d'énergie 13 pour la formation d'une membrane de protection sur une feuille de support 10, et la force d'adhésion entre la membrane de protection et la feuille de support 10 est comprise entre 100 et 2000 mN/25 mm lorsqu'un rayon d'énergie est projeté sur le film durcissable par rayonnement d'énergie 13 pour la formation d'une membrane de protection afin de former la membrane de protection.
(JA) 本発明は、半導体ウエハ又は半導体チップの裏面に保護膜を形成可能であり、良好なダイシング適性を有する、エネルギー線硬化性の保護膜形成用フィルムを備えた保護膜形成用複合シートを提供する。本発明の保護膜形成用複合シート1Aは、支持シート10上に、エネルギー線硬化性の保護膜形成用フィルム13を備えてなり、前記保護膜形成用フィルム13にエネルギー線を照射して保護膜としたとき、前記保護膜と前記支持シート10との間の粘着力が100~2000mN/25mmである。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)