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1. (WO2017185877) SUBSTRAT MATRICIEL ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION

Pub. No.:    WO/2017/185877    International Application No.:    PCT/CN2017/075596
Publication Date: Fri Nov 03 00:59:59 CET 2017 International Filing Date: Sat Mar 04 00:59:59 CET 2017
IPC: H01L 21/84
H01L 27/12
Applicants: BOE TECHNOLOGY GROUP CO., LTD.
京东方科技集团股份有限公司
HEFEI XINSHENG OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY CO., LTD.
合肥鑫晟光电科技有限公司
Inventors: LIU, Yudong
刘玉东
LIU, Rongcheng
刘荣铖
WAN, Yunhai
万云海
Title: SUBSTRAT MATRICIEL ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
Abstract:
L’invention porte sur un substrat matriciel et sur son procédé de fabrication. Le procédé de fabrication du substrat matriciel comprend : la formation d'une couche de passivation (109) sur un substrat de base (101) ; la formation d'une photorésine (1070) sur la couche de passivation (109), et, par exposition et développement, la formation d'un premier motif de photorésine (107) comprenant une zone de conservation complète de photorésine (1071), une zone de conservation partielle de photorésine (1072) et une zone de suppression totale de photorésine (1073) ; la gravure de la couche de passivation (109) pour former un premier trou traversant (1101) dans la couche de passivation (109), en utilisant le premier motif de photorésine (107) comme masque ; la calcination du premier motif de photorésine (107) pour éliminer la photorésine de la zone de conservation partielle de photorésine (1072) et pour amincir la photorésine dans la zone de conservation complète de photorésine(1071), de manière à former un second motif de photorésine (108) ; et la gravure de la couche de passivation (109) pour amincir ladite couche de passivation (109) dans la zone de conservation partielle de photorésine (1072), en utilisant le second motif de photorésine (108) comme masque.