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1. (WO2017185861) STRUCTURE DE SURFACE DE MICRO-RAINURE POUR UNE ÉVAPORATION AMÉLIORÉE
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N° de publication :    WO/2017/185861    N° de la demande internationale :    PCT/CN2017/074096
Date de publication : 02.11.2017 Date de dépôt international : 20.02.2017
CIB :
B01D 1/30 (2006.01)
Déposants : SHUIAI ELECTRICAL TECHNOLOGY (SHANGHAI) CO., LTD. [CN/CN]; No.1, Lane 3999, Xiu Pu Road, Pu Dong Shanghai 201315 (CN)
Inventeurs : YANG, Xiaoke; (CN).
LI, Rong; (CN).
WENG, Haijing; (CN)
Mandataire : IFUTURE INTELLECTUAL PROPERTY (SHANGHAI) LAW FIRM; Room 50I, No.780, Cailun Road, Pu Dong Shanghai 201203 (CN)
Données relatives à la priorité :
201620382741.5 29.04.2016 CN
Titre (EN) MICROGROOVE SURFACE STRUCTURE FOR IMPROVING EVAPORATION
(FR) STRUCTURE DE SURFACE DE MICRO-RAINURE POUR UNE ÉVAPORATION AMÉLIORÉE
(ZH) 有利于蒸发的微沟槽表面结构
Abrégé : front page image
(EN)A microgroove surface structure for improving evaporation, comprising: a plurality of microgrooves (1) provided on a surface of an object. The microgroove (1) extends along a direction of airflow. The microgroove (1) has a depth of 0.2-4 mm and a width of 0.3-5 mm. A surface of the microgroove (1) has a water contact angle of less than 90 degrees.
(FR)L'invention concerne une structure de surface de micro-rainure permettant d'améliorer une évaporation comprenant : une pluralité de micro-rainures (1) disposées sur une surface d'un objet. La micro-rainure (1) s'étend le long d'une direction d'écoulement d'air. La micro-rainure (1) présente une profondeur de 0,2-4 mm et une largeur de 0,3-5 mm. Une surface de la micro-rainure (1) présente un angle de contact avec l'eau inférieur à 90 degrés.
(ZH)一种有利于蒸发的微沟槽表面结构,包括设置于物体表面的多个微沟槽(1),微沟槽(1)沿空气的流动方向延伸;微沟槽(1)的深度为0.2~4mm,宽度为0.3~5mm;微沟槽(1)表面的水接触角小于90度。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)