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1. (WO2017182698) PROCÉDÉ DE COMMANDE D'UN SYSTÈME DE DÉCHETS SOUS VIDE ET SYSTÈME DE DÉCHETS SOUS VIDE
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N° de publication :    WO/2017/182698    N° de la demande internationale :    PCT/FI2017/050205
Date de publication : 26.10.2017 Date de dépôt international : 23.03.2017
CIB :
E03F 1/00 (2006.01)
Déposants : EVAC OY [FI/FI]; Sinimäentie 14 02630 ESPOO (FI)
Inventeurs : LAPPALAINEN, Vesa; (FI)
Mandataire : BERGGREN OY; P.O. Box 16 (Eteläinen Rautatiekatu 10 A) 00101 HELSINKI (FI)
Données relatives à la priorité :
20165343 19.04.2016 FI
Titre (EN) METHOD OF CONTROLLING A VACUUM WASTE SYSTEM AND A VACUUM WASTE SYSTEM
(FR) PROCÉDÉ DE COMMANDE D'UN SYSTÈME DE DÉCHETS SOUS VIDE ET SYSTÈME DE DÉCHETS SOUS VIDE
Abrégé : front page image
(EN)Method of controlling a vacuum waste system, which comprises a number of sources of waste (9), vacuum sewer piping (7) including at least a branch pipe (71) and at least a main pipe line (72), a discharge valve (8) having an inlet end connected to a source of waste and an outlet end provided with a given type of connection to the vacuum sewer piping, and a vacuum unit (11) connected to the vacuum sewer piping. Vacuum is generated in the vacuum sewer piping by the vacuum unit and a discharge sequence for discharging waste from the source of waste into the vacuum sewer piping is activated by a discharge sequence activating means (20), whereby the discharge sequence is set for a predetermined time. In order to achieve an optimized control of the vacuum waste system, the predetermined time for a discharge sequence for a source of waste is set according to the given type of connection (711, 712) of the discharge valve to the vacuum sewer piping or according to the location (L1, L2) of the discharge valve with respect to the vacuum sewer piping.
(FR)La présente invention concerne un procédé de commande d'un système de déchets sous vide, qui comprend une pluralité de sources de déchets (9), une tuyauterie d'égout sous vide (7) comprenant au moins un tuyau de dérivation (71) et au moins une conduite de tuyau principal (72), une vanne d’évacuation (8) ayant une extrémité d'entrée raccordée à une source de déchets et une extrémité de sortie pourvue d'un type donné de raccordement à la tuyauterie d'égout sous vide, et une unité de vide (11) raccordée à la tuyauterie d'égout sous vide. Un vide est généré dans la tuyauterie d'égout sous vide par l'unité de vide et une séquence d’évacuation pour évacuer les déchets de la source de déchets dans la tuyauterie d'égout sous vide est activée par un moyen d'activation de séquence d’évacuation (20), la séquence d’évacuation étant définie pendant un temps prédéterminé. Afin d’obtenir une commande optimisée du système de déchets sous vide, le temps prédéterminé pour une séquence d’évacuation pour une source de déchets est défini en fonction du type de raccordement donné (711, 712) de la vanne d'évacuation à la tuyauterie d'égout sous vide ou en fonction de l'emplacement (L1, L2) de la vanne d'évacuation par rapport à la tuyauterie d'égout sous vide.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)