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1. (WO2017182064) STRUCTURES À GRATTER
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N° de publication : WO/2017/182064 N° de la demande internationale : PCT/EP2016/058700
Date de publication : 26.10.2017 Date de dépôt international : 20.04.2016
CIB :
B41M 3/00 (2006.01) ,A63F 3/06 (2006.01) ,B42D 15/02 (2006.01)
Déposants : HP INDIGO B.V.[NL/NL]; Startbaan 16 1187 XR Amstelveen, NL
Inventeurs : TZOMIK, Inna; IL
RON, Hannoch; IL
BRANDRISS, Sergio; IL
ROMANTCOV, Gleb; IL
KOGAN, Faina; IL
Mandataire : ROGERS, Alex Lee; GB
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) SCRATCH-OFF STRUCTURES
(FR) STRUCTURES À GRATTER
Abrégé :
(EN) Herein is described a scratch-off structure comprising the following layers in order: a substrate having a first layer showing information thereon, a second layer comprising a polymeric film and being substantially transparent; a third layer comprising a transparent electrostatic ink; a fourth layer, wherein the fourth layer is coloured. Methods for making scratch- off structures and collections of scratch-off structures are also described.
(FR) L'invention concerne une structure à gratter comprenant les couches suivantes dans l'ordre : un substrat ayant une première couche sur laquelle des informations sont présentées, une deuxième couche qui comprend un film polymère et est sensiblement transparente ; une troisième couche qui comprend une encre électrostatique transparente ; et une quatrième couche, la quatrième couche étant colorée. L'invention concerne également des procédés de réalisation de structures à gratter et des collections de structures à gratter.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)