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1. (WO2017181057) PROCÉDÉ DE STRUCTURATION D'UN SUBSTRAT À L'AIDE D'UNE COUCHE À MATÉRIAUX MULTIPLES
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N° de publication :    WO/2017/181057    N° de la demande internationale :    PCT/US2017/027693
Date de publication : 19.10.2017 Date de dépôt international : 14.04.2017
CIB :
H01L 21/768 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
Déposants : TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; Akasaka Biz Tower 3-1 Akasaka 5-chome Minato-ku, Tokyo 107-6325 (JP).
TOKYO ELECTRON U.S. HOLDINGS, INC. [US/US]; 2400 Grove Boulevard Austin, Texas 78741 (US) (JP only)
Inventeurs : DEVILLIERS, Anton J.; (US)
Mandataire : MATHER, Joshua D.; (US)
Données relatives à la priorité :
62/322,603 14.04.2016 US
Titre (EN) METHOD FOR PATTERNING A SUBSTRATE USING A LAYER WITH MULTIPLE MATERIALS
(FR) PROCÉDÉ DE STRUCTURATION D'UN SUBSTRAT À L'AIDE D'UNE COUCHE À MATÉRIAUX MULTIPLES
Abrégé : front page image
(EN)Techniques disclosed herein provide a method of patterning for creating high-resolution features and also for cutting on pitch of sub-resolution features. Techniques include forming bi-layer or multi-layer mandrels and then forming one or more lines of material running along sidewalls of the mandrels. The different materials can have different etch resistivities to be able to selectively etch one or more of the materials to create features and create cuts and blocks where specified. Etching using an etch mask positioned above or below this multi-line layer further defines a pattern that is transferred into an underlying layer. Having a mandrel of two or more layers of material enables one of those materials to be sacrificial such as when etching a spin-on reversal overcoat material that has filled-in open spaces, but leaves an overburden.
(FR)Les techniques selon la présente invention concernent un procédé de structuration pour créer des caractéristiques haute-résolution et également pour couper le pas de caractéristiques de sous-résolution. Les techniques consistent à former des mandrins à deux couches ou multicouches, puis à former une ou plusieurs lignes de matériau s'étendant le long des parois latérales des mandrins. Les différents matériaux peuvent avoir des résistivités de gravure différentes pour pouvoir graver sélectivement un ou plusieurs des matériaux afin de créer des caractéristiques et de créer des coupes et des blocs là où ils sont spécifiés. La gravure à l'aide d'un masque de gravure positionné au-dessus ou au-dessous de cette couche multilignes définit un motif qui est transféré dans une couche sous-jacente. Avoir d'un mandrin constitué de deux, ou plus, couches de matériau permet à l'un de ces matériaux d'être sacrificiel, comme, lors de la gravure, un matériau de revêtement d'inversion de rotation qui présente des espaces ouverts remplis, mais laisse une couverture.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)