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1. (WO2017180494) FORMULATIONS POUR JET D'ENCRE DURCISSABLE PAR UN FAISCEAU D'ÉLECTRONS PRÉSENTANT UNE RÉSISTANCE CHIMIQUE AMÉLIORÉE

Pub. No.:    WO/2017/180494    International Application No.:    PCT/US2017/026755
Publication Date: 19 oct. 2017 International Filing Date: 10 avr. 2017
IPC: C09D 11/101
C09D 11/00
C09D 11/10
Applicants: SUN CHEMICAL CORPORATION
Inventors: HALL, Stephen, Anthony
ILLSLEY, Derek, Ronald
Title: FORMULATIONS POUR JET D'ENCRE DURCISSABLE PAR UN FAISCEAU D'ÉLECTRONS PRÉSENTANT UNE RÉSISTANCE CHIMIQUE AMÉLIORÉE
Abstract:
La présente invention concerne un procédé d'impression de compositions d'encres et de revêtements durcissables par application d'énergie, comprenant des quantités élevées de monomères monofonctionnels qui présentent à la fois une bonne adhérence à des substrats plastiques et une bonne résistance aux solvants. Le procédé de la présente invention fait appel à un durcissement des compositions d'encres et de revêtements par un faisceau d'électrons, à des tensions d'accélération supérieures ou égales à 70 keV, et des doses de rayonnement de faisceau d'électrons supérieures ou égales à 30 kGy, et de préférence supérieures ou égales à 40 kGy.