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1. (WO2017180141) ATTÉNUATION INTERFACIALE SÉLECTIVE DES DÉFAUTS DU GRAPHÈNE
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N° de publication :    WO/2017/180141    N° de la demande internationale :    PCT/US2016/027632
Date de publication : 19.10.2017 Date de dépôt international : 14.04.2016
CIB :
C01B 31/04 (2006.01), B01J 19/08 (2006.01), B82B 1/00 (2006.01), B82Y 30/00 (2011.01), B82Y 40/00 (2011.01)
Déposants : LOCKHEED MARTIN CORPORATION [US/US]; 6801 Rockledge Drive Bethesda, Maryland 20817 (US)
Inventeurs : LIU, Han; (US).
SIMON, Sarah M.; (US).
SINSABAUGH, Steven Lloyd; (US)
Mandataire : THOMPSON, Eley O.; (US)
Données relatives à la priorité :
15/099,410 14.04.2016 US
Titre (EN) SELECTIVE INTERFACIAL MITIGATION OF GRAPHENE DEFECTS
(FR) ATTÉNUATION INTERFACIALE SÉLECTIVE DES DÉFAUTS DU GRAPHÈNE
Abrégé : front page image
(EN)A method for the repair of defects in a graphene or other two-dimensional material through interfacial polymerization.
(FR)L'invention concerne un procédé de réparation des défauts dans un graphène ou un autre matériau bidimensionnel par polymérisation interfaciale.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)