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1. (WO2017179476) COMPOSITION POUR RÉSINES À FAIBLE DISPERSION À INDICE DE RÉFRACTION ÉLEVÉ POUR DES ÉLÉMENTS OPTIQUES DE DIFFRACTION COMPOSITES, ET ÉLÉMENT OPTIQUE DE DIFFRACTION COMPOSITE L'UTILISANT
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N° de publication :    WO/2017/179476    N° de la demande internationale :    PCT/JP2017/014302
Date de publication : 19.10.2017 Date de dépôt international : 06.04.2017
CIB :
G02B 5/18 (2006.01), C08G 75/045 (2016.01), G02B 1/04 (2006.01)
Déposants : MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. [JP/JP]; 5-2, Marunouchi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008324 (JP)
Inventeurs : NAMIKI Kousuke; (JP).
KOSHIISHI Eiji; (JP).
FURUKAWA Kikuo; (JP).
HORIKOSHI Hiroshi; (JP)
Mandataire : KOBAYASHI Hiroshi; (JP).
SUGIYAMA Tomohisa; (JP).
USHIO Taro; (JP).
SUZUKI Yasuhito; (JP)
Données relatives à la priorité :
2016-079016 11.04.2016 JP
Titre (EN) COMPOSITION FOR HIGH REFRACTIVE INDEX LOW DISPERSION RESINS FOR COMPOSITE DIFFRACTION OPTICAL ELEMENTS, AND COMPOSITE DIFFRACTION OPTICAL ELEMENT USING SAME
(FR) COMPOSITION POUR RÉSINES À FAIBLE DISPERSION À INDICE DE RÉFRACTION ÉLEVÉ POUR DES ÉLÉMENTS OPTIQUES DE DIFFRACTION COMPOSITES, ET ÉLÉMENT OPTIQUE DE DIFFRACTION COMPOSITE L'UTILISANT
(JA) 複合回折光学素子用の高屈折率低分散樹脂用組成物、及び、それを用いた複合回折光学素子
Abrégé : front page image
(EN)The present invention addresses the problem of providing: a composition for high refractive index low dispersion resins for close-contact double layer type composite diffraction optical elements, which has good photocurability and high productivity; and a close-contact double layer type composite diffraction optical element which uses this composition for high refractive index low dispersion resins for close-contact double layer type composite diffraction optical elements. The above-described problem is solved by a composition for high refractive index low dispersion resins for close-contact double layer type composite diffraction optical elements, which contains a thiol compound represented by general formula (1) or an oligomer that is synthesized using a thiol compound represented by general formula (1) (component A) and an ene compound having two or more polymerizable unsaturated bonds (component B). (In the formula, p represents an integer of 2-5; each of Xp and Zp independently represents a hydrogen atom or a mercaptomethyl group; the ratio of sulfur atoms in each molecule is 40-80% by mass; and the number of thiol groups is 3 or more.)
(FR)La présente invention pose le problème d'obtenir une composition pour des résines à faible dispersion à indice de réfraction élevé destinées à des éléments optiques de diffraction composites de type à double couche à contact étroit, qui présente une bonne aptitude au photodurcissement et un rendement élevé; et un élément optique de diffraction composite de type à double couche à contact étroit qui utilise cette composition pour des résines à faible dispersion à indice de réfraction élevé destinées à des éléments optiques de diffraction composites de type à double couche à contact étroit. Le problème précité est résolu par l'obtention d'une composition pour des résines à faible dispersion à indice de réfraction élevé destinées à des éléments optiques de diffraction composites de type à double couche à contact étroit, qui contient un composé thiol représenté par la formule générale (1) ou un oligomère qui est synthétisé à l'aide d'un composé thiol représenté par la formule générale (1) (composant A) et d'un composé ène ayant au moins deux liaisons insaturées polymérisables (composant B). (Dans la formule, p représente un entier compris entre 2 et 5; chacun des Xp et Zp représente indépendamment un atome d'hydrogène ou un groupe mercaptométhyle; le rapport des atomes de soufre dans chaque molécule étant de 40 à 80 % en masse; et le nombre de groupes thiols est égal ou supérieur à 3.)
(JA)本発明の課題は、光硬化性が良好で生産性の高い密着2層型複合回折光学素子用の高屈折率低分散樹脂用組成物、およびこれを用いた密着2層型複合回折光学素子を提供することである。 上記課題は、一般式(1)で表わされるチオール化合物、又は、一般式(1)で表されるチオール化合物を用いて合成されたオリゴマーである(A成分)、及び2以上の重合性不飽和結合を有するエン化合物(B成分)を含有する、密着2層型複合回折光学素子用、高屈折率低分散樹脂用組成物により解決された。(式中、pは2~5の整数を表し、X及びZはそれぞれ独立に水素原子またはメルカプトメチル基を表す。硫黄原子の分子中の割合は40~80質量%である。チオール基の数は3以上である。)
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)