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1. (WO2017179385) RÉSINE DE TYPE NOVOLAQUE ET MATÉRIAU DE RÉSERVE
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N° de publication :    WO/2017/179385    N° de la demande internationale :    PCT/JP2017/011647
Date de publication : 19.10.2017 Date de dépôt international : 23.03.2017
CIB :
C08G 8/20 (2006.01), C08L 61/08 (2006.01), G03F 7/023 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : DIC CORPORATION [JP/JP]; 35-58, Sakashita 3-chome, Itabashi-ku, Tokyo 1748520 (JP)
Inventeurs : IMADA Tomoyuki; (JP).
SATO Yusuke; (JP)
Mandataire : KONO Michihiro; (JP)
Données relatives à la priorité :
2016-080299 13.04.2016 JP
Titre (EN) NOVOLAK TYPE RESIN AND RESIST MATERIAL
(FR) RÉSINE DE TYPE NOVOLAQUE ET MATÉRIAU DE RÉSERVE
(JA) ノボラック型樹脂及びレジスト材料
Abrégé : front page image
(EN)Provided are: a novolak type resin excellent in terms of various performances including heat resistance, alkali developability, photosensitivity, and resolution; a photosensitive composition which contains the novolak type resin; a curable composition containing the novolak type resin, and a cured object obtained from the curable composition; and a resist material which comprises the photosensitive composition or curable composition. The novolak type resin is obtained from starting reactant materials indispensably comprising a compound (A) having a tris(hydroxyaryl)methine group and an aldehyde compound (B). The photosensitive composition contains the novolak type resin. The curable composition contains the novolak type resin. The cured object is obtained from the curable composition. The resist material comprises the photosensitive composition or curable composition.
(FR)L'invention concerne : une résine de type novolaque ayant des performances excellentes et variées, notamment la résistance à la chaleur, l'aptitude au développement alcalin, la photosensibilité et la résolution ; une composition photosensible qui contient la résine de type novolaque ; une composition durcissable contenant la résine de type novolaque, et un objet durci obtenu à partir de la composition durcissable ; et un matériau de réserve qui comprend la composition photosensible ou la composition durcissable. La résine de type novolaque est obtenue à partir de matières réactives de départ qui comprennent obligatoirement un composé (A) ayant un groupe tris(hydroxyaryl)méthine et un composé aldéhyde (B). La composition photosensible contient la résine de type novolaque. La composition durcissable contient la résine de type novolaque. L'objet durci est obtenu à partir de la composition durcissable. Le matériau de réserve comprend la composition photosensible ou la composition durcissable.
(JA)耐熱性、アルカリ現像性、光感度、解像度等の諸性能に優れるノボラック型樹脂、前記ノボラック型樹脂を含有する感光性組成物、前記ノボラック型樹脂を含有する硬化性組成物とその硬化物、前記感光性組成物又は硬化性組成物を用いてなるレジスト材料を提供する。トリス(ヒドロキシアリール)メチン基を有する化合物(A)とアルデヒド化合物(B)とを必須の反応原料とするノボラック型樹脂、前記ノボラック型樹脂を含有する感光性組成物、前記ノボラック型樹脂を含有する硬化性組成物とその硬化物、前記感光性組成物又は硬化性組成物を用いてなるレジスト材料による。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)