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1. (WO2017178285) PROCÉDÉ D'AJUSTEMENT D'ACTIONNEMENT D'APPAREIL LITHOGRAPHIQUE
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N° de publication :    WO/2017/178285    N° de la demande internationale :    PCT/EP2017/057971
Date de publication : 19.10.2017 Date de dépôt international : 04.04.2017
CIB :
G03F 7/20 (2006.01), G03F 9/00 (2006.01)
Déposants : ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven (NL)
Inventeurs : QUEENS, Rene, Marinus, Gerardus, Johan; (NL).
SCHMITT-WEAVER, Emil, Peter; (NL)
Mandataire : PETERS, John; (NL)
Données relatives à la priorité :
16165605.3 15.04.2016 EP
Titre (EN) METHOD FOR ADJUSTING ACTUATION OF A LITHOGRAPHIC APPARATUS
(FR) PROCÉDÉ D'AJUSTEMENT D'ACTIONNEMENT D'APPAREIL LITHOGRAPHIQUE
Abrégé : front page image
(EN)A lithographic apparatus is a machine that applies a desired pattern onto a substrate, usually onto a target portion of the substrate. A functional relationship between local height deviations across a substrate and focus information, such as a determined focus amount, is determined for a reference substrate. Height deviations are subsequently measured for another substrate, e.g. a production substrate. The height deviations for the subsequent substrate and the functional relationship are used to determine predicted focus information for the subsequent substrate. The predicted focus information is then used to control the lithographic apparatus to apply a product pattern to the product substrate.
(FR)L'invention concerne un appareil lithographique qui est une machine qui applique un motif souhaité sur un substrat, généralement sur une partie cible du substrat. Une relation fonctionnelle entre des écarts de hauteur locale sur un substrat et des informations de mise au point, telles qu'une amplitude de mise au point déterminée, est déterminée pour un substrat de référence. Des écarts de hauteur sont ensuite mesurés pour un autre substrat, par exemple un substrat de production. Les écarts de hauteur pour le substrat suivant et la relation fonctionnelle sont utilisés pour déterminer des informations de mise au point prédites pour le substrat suivant. Les informations de mise au point prédites sont ensuite utilisées pour commander l'appareil lithographique pour appliquer un motif de produit sur le substrat de produit.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)