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1. (WO2017178169) SUBSTRAT EN VERRE RÉFLÉCHISSANT BLEU ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
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N° de publication :    WO/2017/178169    N° de la demande internationale :    PCT/EP2017/055852
Date de publication : 19.10.2017 Date de dépôt international : 13.03.2017
CIB :
C03C 23/00 (2006.01), C03C 4/02 (2006.01)
Déposants : AGC GLASS EUROPE [BE/BE]; Avenue Jean Monnet, 4 1348 Louvain-La-Neuve (BE).
AGC GLASS COMPANY NORTH AMERICA [US/US]; 11175 Cicero Drive Suite 400 Alpharetta, GA Georgia/Georgia 30022-1167 (US).
ASAHI GLASS CO LTD [JP/JP]; Shin-Marunouchi Building1-5-1 MarunouchiChiyoda Ku Tokyo, Tokyo/Tokyo 100-8405 (JP).
QUERTECH INGÉNIERIE [FR/FR]; 9, rue de la Girafe 14000 Caen (FR)
Inventeurs : NAVET, Benjamine; (BE).
BOULANGER, Pierre; (BE).
BUSARDO, Denis; (FR)
Mandataire : AGUSTSSON, Sveinn Otto; (BE)
Données relatives à la priorité :
16164905.8 12.04.2016 EP
Titre (EN) BLUE REFLECTIVE GLASS SUBSTRATE AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME
(FR) SUBSTRAT EN VERRE RÉFLÉCHISSANT BLEU ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
Abrégé : front page image
(EN)The invention concerns a method for manufacturing blue reflective glass substrates by ion implantation, comprising ionizing a N2 source gas so as to form a mixture of single charge and multicharge ions of N, forming a beam of single charge and multicharge ions of N by accelerating with an acceleration voltage A comprised between 15 kV and 35 kV and a dosage D is comprised between -9.33 x 1015 x A/kV + 3.87 x 1017 ions/cm2 and 7.50 x 1017 ions/cm2. The invention further concerns blue reflective glass substrates comprising an area treated by ion implantation with a mixture of simple charge and multicharge ions according to this method.
(FR)L'invention concerne un procédé permettant de fabriquer des substrats en verre réfléchissant bleu par implantation ionique, ledit procédé consistant à ioniser un gaz source de N2 de manière à former un mélange d'ions à charge unique et à charges multiples de N, à former un faisceau d'ions à charge unique et à charges multiples de N par accélération avec une tension d'accélération A comprise entre 15 kV et 35 kV et à établir la dose d'ions D à une valeur comprise entre -9,33 x 1015 x A/kV + 3,87 x 1017 ions/cm2 et 7,50 x 1017 ions/cm2. L'invention concerne en outre des substrats en verre réfléchissant bleu comprenant une surface traitée par implantation ionique avec un mélange d'ions à charge unique et à charges multiples selon ledit procédé.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)