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1. (WO2017176129) SYSTÈME DE RETENUE ET DE LIBÉRATION DÉPENDANT DE LA FORCE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication :    WO/2017/176129    N° de la demande internationale :    PCT/NZ2017/050040
Date de publication : 12.10.2017 Date de dépôt international : 07.04.2017
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    08.02.2018    
CIB :
E01F 15/04 (2006.01), F16B 43/00 (2006.01), E01F 13/12 (2006.01)
Déposants : HOLMES SOLUTIONS LIMITED PARTNERSHIP [NZ/NZ]; Level 2, Tower Centre 50 Customhouse Quay 6011 Wellington (NZ)
Inventeurs : ALLINGTON, Christopher James; (NZ).
DIEHL, Andrew Karl; (NZ).
SARRATT, Andrew; (NZ).
RYDER, Emerson; (NZ).
READMAN, Ken; (NZ).
KING, Nathan; (NZ)
Mandataire : CREATEIP; PO Box 21445 Edgeware 8143 Christchurch (NZ)
Données relatives à la priorité :
718760 08.04.2016 NZ
Titre (EN) A FORCE DEPENDENT RETENTION AND RELEASE SYSTEM
(FR) SYSTÈME DE RETENUE ET DE LIBÉRATION DÉPENDANT DE LA FORCE
Abrégé : front page image
(EN)Described herein is a force dependent retention and release system where the system links members together in a releasable manner dependent on an applied force via at least one tuneable retention means. Release may be made dependent on both the magnitude and direction of the force so that release may be a result of different release forces in different force angles. The retention means may be at least one deformable washer. The deformable washer may be designed to transfer a load force from a first member via a fastener to a second member, the washer extending around the fastener and having a first face that bears on the fastener or a part thereof (or forms part of the fastener) and an opposing face that at least partly bears on a part of the first and/or second member. The washer is designed so that, in the event of a force of sufficient magnitude, on one or both members, the washer at least partly deforms allowing the members to separate.
(FR)La présente invention concerne un système de retenue et de libération dépendant de la force, le système liant des éléments ensemble d'une manière libérable en fonction d'une force appliquée par l'intermédiaire d'au moins un moyen de retenue réglable. La libération peut être réalisée en fonction à la fois de l'amplitude et de la direction de la force pour que la libération puisse être un résultat de différentes forces de libération dans différents angles de force. Le moyen de retenue peut être au moins une rondelle déformable. La rondelle déformable peut être conçue pour transférer une force de charge d'un premier élément par l'intermédiaire d'un dispositif de fixation à un second élément, la rondelle s'étendant autour du dispositif de fixation et possédant une première face qui s'appuie sur le dispositif de fixation ou une partie de celui-ci (ou fait partie du dispositif de fixation) et une face opposée qui s'appuie au moins partiellement sur une partie du premier élément et/ou du second élément. La rondelle est conçue pour que, dans le cas d'une force d'amplitude suffisante, sur l'un ou les deux éléments, la rondelle se déforme au moins partiellement, permettant aux éléments de se séparer.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)