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1. (WO2017175778) RÉSINE DE POLYCARBONATE ALIPHATIQUE POUR FORMATION DE PAROI DE SÉPARATION, MATÉRIAU DE PAROI DE SÉPARATION, SUBSTRAT AINSI QUE PROCÉDÉ DE FABRICATION DE CELUI-CI, PROCÉDÉ DE FABRICATION DE CARTE DE CIRCUIT IMPRIMÉ, ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE CÂBLAGE

Pub. No.:    WO/2017/175778    International Application No.:    PCT/JP2017/014171
Publication Date: Fri Oct 13 01:59:59 CEST 2017 International Filing Date: Thu Apr 06 01:59:59 CEST 2017
IPC: C08G 64/02
H05K 1/03
H05K 3/10
Applicants: SUMITOMO SEIKA CHEMICALS CO., LTD.
住友精化株式会社
Inventors: NISHIOKA, Kiyoshi
西岡 聖司
TAKEDA, Hideyuki
竹田 英幸
Title: RÉSINE DE POLYCARBONATE ALIPHATIQUE POUR FORMATION DE PAROI DE SÉPARATION, MATÉRIAU DE PAROI DE SÉPARATION, SUBSTRAT AINSI QUE PROCÉDÉ DE FABRICATION DE CELUI-CI, PROCÉDÉ DE FABRICATION DE CARTE DE CIRCUIT IMPRIMÉ, ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE CÂBLAGE
Abstract:
L’invention fournit une résine de polycarbonate aliphatique d’une excellente hydrophobie, et adaptée pour former une paroi de séparation lors de la fabrication d’une carte de circuit imprimé. Plus précisément, l’invention concerne une résine de polycarbonate aliphatique pour formation de paroi de séparation qui contient une unité constitutive représentée par la formule générale (1) (Dans la formule, R1,R2, R3 et R4 représentent chacun indépendamment un atome d’hydrogène, un groupe alkyle d’un atome de carbone ou plus, un groupe alcoxyalkyle de deux atomes de carbone ou plus, un groupe aryle, ou un groupe aryloxyalkyle, en outre au moins un élément parmi R1, R2, R3 ou R4 représente un groupe alkyle de deux atomes de carbone ou plus, un groupe alcoxyalkyle de deux atomes de carbone ou plus, un groupe aryle, ou un groupe aryloxyalkyle. R1,R2, R3 et R4 peuvent être identiques ou différents.), et qui présente un angle de contact avec l’eau supérieur ou égal à 75°.