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1. (WO2017175642) FILM DE MODULATION D'INDICE DE RÉFRACTION PHOTOSENSIBLE, PROCÉDÉ DE FORMATION D'UN MOTIF DE FILM DURCI, FILM DURCI ET COMPOSANT ÉLECTRONIQUE

Pub. No.:    WO/2017/175642    International Application No.:    PCT/JP2017/012966
Publication Date: Fri Oct 13 01:59:59 CEST 2017 International Filing Date: Thu Mar 30 01:59:59 CEST 2017
IPC: G03F 7/004
B32B 7/02
B32B 27/30
G03F 7/027
G03F 7/031
G03F 7/033
G03F 7/11
G06F 3/041
Applicants: HITACHI CHEMICAL COMPANY, LTD.
日立化成株式会社
Inventors: WATANABE Takumi
渡邊 匠
WATANABE Kazuhito
渡部 和仁
SATO Mayumi
佐藤 真弓
OZAWA Masayoshi
小澤 正芳
Title: FILM DE MODULATION D'INDICE DE RÉFRACTION PHOTOSENSIBLE, PROCÉDÉ DE FORMATION D'UN MOTIF DE FILM DURCI, FILM DURCI ET COMPOSANT ÉLECTRONIQUE
Abstract:
L'invention concerne un film de modulation d'indice de réfraction photosensible qui comporte : un film de support; une première couche de résine qui est disposée sur le film de support et qui contient un di(méth)acrylate ayant une structure dicyclopentanyle ou une structure dicyclopentényle; et une seconde couche de résine qui est disposée sur la première couche de résine et qui contient des particules d'oxyde métallique et un polymère ayant un indice d'acide supérieur ou égal à 150 mgKOH/g.