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1. (WO2017175634) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'ÉLÉMENT DE FORMATION D'IMAGE
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N° de publication :    WO/2017/175634    N° de la demande internationale :    PCT/JP2017/012845
Date de publication : 12.10.2017 Date de dépôt international : 29.03.2017
CIB :
G02B 27/22 (2006.01), G02B 5/08 (2006.01)
Déposants : KONICA MINOLTA, INC. [JP/JP]; 2-7-2 Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo 1007015 (JP)
Inventeurs : FUJII, Yuiti; (JP).
KITANO, Hirohisa; (JP)
Mandataire : FUKAMI PATENT OFFICE, P.C.; Nakanoshima Festival Tower West, 2-4, Nakanoshima 3-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300005 (JP)
Données relatives à la priorité :
2016-075141 04.04.2016 JP
Titre (EN) MANUFACTURING METHOD OF IMAGING ELEMENT
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'ÉLÉMENT DE FORMATION D'IMAGE
(JA) 結像素子の製造方法
Abrégé : front page image
(EN)This imaging element manufacturing method involves a step for arranging unit reflective elements (10A, 10B) on a planar body (40) so as to be adjacent in the planar direction, a step for supplying an adhesive between the unit reflective elements (10A, 10B), and a step in which, by applying an outside force to at least one of the unit reflective elements (10A, 10B), at least one of the unit reflective elements is deformed so as to conform to the shape of the surface (41) of the planar body (40). In a state in which at least one of the unit reflective elements has been deformed so as to conform to the shape of the surface (41) of the planar body (40) by applying an external force to at least one of the unit reflective elements, the adhesive is cured, adhering the unit reflective elements (10A, 10B) together. When two unit reflective elements have been adhered in the planar direction, the mutually adjacent surfaces can form a single smooth and continuous surface in the vicinity of the adhered area.
(FR)L'invention concerne un procédé de fabrication d'élément de formation d'image qui comprend une étape consistant à disposer des éléments réfléchissants unitaires (10A, 10B) sur un corps plat (40) de façon à être adjacents dans la direction planaire, une étape consistant à fournir un adhésif entre les éléments réfléchissants unitaires (10A, 10B), et une étape dans laquelle, en appliquant une force extérieure sur au moins un des éléments réfléchissants unitaires (10A, 10B), au moins un des éléments réfléchissants unitaires est déformé de façon à se conformer à la forme de la surface (41) du corps plat (40). Dans un état dans lequel au moins un des éléments réfléchissants unitaires a été déformé de façon à se conformer à la forme de la surface (41) du corps plat (40) par application d'une force externe sur au moins un des éléments réfléchissants unitaires, l'adhésif est durci, collant les éléments réfléchissants unitaires (10A, 10B) ensemble. Lorsque deux éléments réfléchissants unitaires ont été collés dans la direction planaire, les surfaces mutuellement adjacentes peuvent former une surface lisse et continue unique au voisinage de la zone collée.
(JA)結像素子の製造方法は、単位反射素子(10A,10B)を面方向に隣り合うように平面体(40)上に配置する工程と、単位反射素子(10A,10B)の間に接着剤を供給する工程と、単位反射素子(10A,10B)の少なくとも一方に外力を付与することにより、平面体(40)の表面(41)の形状に沿うように少なくとも一方の単位反射素子を変形させる工程とを備える。少なくとも一方の単位反射素子に外力を付与することにより平面体(40)の表面(41)の形状に沿うように少なくとも一方の単位反射素子を変形させた状態で、接着剤を硬化させ、単位反射素子(10A,10B)とを互いに接着する。2枚の単位反射素子を面方向に接着した際に、隣接する表面同士が接着部の近傍において滑らかに連続した1つの面を形成することが可能となる。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)